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OFICINA ESPAÑOLA DE
PATENTES Y MARCAS
ESPAÑA
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Núme o de publicación: 2 186 530
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Núme o de solici ud: 200100911
51
In . Cl.7:C23C 16/40
C23C 16/06
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PATENTE DE INVENCIÓN B1
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Fecha de p esen ación: 19.04.2001
43
Fecha de publicación de la solici ud: 01.05.2003
Fecha de la concesión: 24.02.2005
45
Fecha de anuncio de la concesión: 01.05.2005
45
Fecha de publicación del olle o de la pa en e:
01.05.2005
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Ti ula /es:
Consejo Supe io de In es igaciones Cien í icas
Se ano, 117
28006 Mad id, ES
Uni e sidad de Se illa
72
In en o /es: Ba anco Que o, Ángel;
Yube o Valencia, F ancisco;
Co ino Bau is a, José;
Espinós Manzo o, Juan Ped o y
Rod íguez González-Elipe, Agus ín
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Agen e: No cons a
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Tí ulo: P ocedimien o pa a la p epa ación de capas inas po osas de óxidos ino gánicos.
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Resumen:
P ocedimien o pa a la p epa ación de capas inas po o-
sas de óxidos ino gánicos.
El obje o de la p esen e in ención es un p ocedimien o
pa a la p epa ación de capas inas de óxidos ino gánicos
sob e subs a os median e la deposición desde ase a-
po asis ida po plasma que se di e encia de los p ocedi-
mien os habi uales po que se in e calan en e las sucesi-
as e apas de deposición del óxido ino gánico e apas de
deposición de capas o gánicas, de o ma que du an e la
e apa de deposición de la capa ino gánica se p oduzca
la eliminación po combus ión de la pa e o gánica p e-
iamen e deposi ada. El p ocedimien o es de in e és en
el desa ollo de memb anas selec i as pa a sepa ación
y pu i icación de luidos así como pa a la ab icación y
modi icación de senso es de gases y de humedad y de
componen es elec ónicos.
A iso: Se puede ealiza consul a p e is a po el a . 37.3.8 LP.
ES 2 186 530 B1
Ven a de ascículos: O icina Española de Pa en es y Ma cas. C/Panamá, 1 – 28036 Mad id
1ES 2 186 530 A1 2
DESCRIPCION
P ocedimien o pa a la p epa aci´on de capas
inas po osas de ´oxidos ino g´anicos.
Sec o de la ´ecnica
Un p ime sec o de aplicaci´on del p ocedi-
mien o se enma ca, den o de las nue as ecno-
log´ıas qu´ımicas, en el desa ollo de memb anas
selec i as pa a sepa aci´on y pu i icaci´on de lui-
dos. O os sec o es de in e ´es se elacionan con la
ab icaci´on y modi icaci´on de senso es de gases y
de humedad y ecnolog´ıas ´ısicas de modi icaci´on
de p opiedades de ib as ´op icas y componen es
elec ´onicos.
Obje o de la in enci´on
El obje o de la p esen e in enci´on es un p o-
cedimien opa alap epa aci´on de capas inas de
´oxidos ino g´anicos sob e subs a os median e la
deposici´on desde ase apo asis ida po plasma
que se di e encia de los p ocedimien os habi uales
po que se in e calan en e las sucesi as e apas de
deposici´on del ´oxido ino g´anico e apas de deposi-
ci´on de capas o g´anicas, de o ma que du an e la
e apa de deposici´on de la capa ino g´anica se p o-
duzca la eliminaci´on po combus i´on de la pa e
o g´anica p e iamen e deposi ada.
Es ado de la ´ecnica
Los m´e odos de deposici´on de l´aminas del-
gadas ipo sol/gel, u ilizaci´on de ma e iales en
o ma de pol o y simila es basados en m´e odos
qu´ımicos se han usado p e iamen e pa a la s´ın-
esis de capas po osas de in e ´es como memb a-
nas, senso es, sopo e de ca alizado es, e c. (C.
G. G¨olne , M. An onie i, A d. Ma e . 9 (1997)
432, S. Singh, D. Y. Sasaki, J. Cesa ano III, A.
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(1995) 33; W, F. Maie , I-C. Tilgne , M. Wiedom,
H-Ch. Ko, Ad anced ma e ials 5 (1993) 726). En
odos es os p ocesos es necesa io p ocede , en al-
guna e apa de la p epa aci´on, a calen a el ma e-
ial pa a bien ac i a eacciones qu´ımicas (com-
bus i´on) y/o pa a acele a la ees uc u aci´on y
sin e izaci´on de la capa. Un m´e odo al e na i o
que pe mi e abaja o bien a empe a u a am-
bien e o bajo calen amien o del subs a o con-
sis e en la u ilizaci´on de plasmas ´ıos que, me-
dian e la descomposici´on de p ecu so es me ´alicos
ol´a iles, posibili an la deposici´on de capas inas
de ´oxidos o ni u os me ´alicos o sis emas simi-
la es (E.C. T acy, J.A. Tu ne , D.K. Benson, P.
Liu, J-G. Zhang, W09919534, 1999; A. Koganei,
Z. Mo omiya, JP9272978, 1997; M.S. Ameen, J.
Hillman, US5989652, 1999; R. A ni, D. Mo an,
J. Amou oux, S. Mi alai, FR2729400, 1996; J.C.
Alonso,S.J.Ram´ı ez, M. Ga c´ıa, A. O iz, J.
Vac. Sci. Technol. A 13 (1995) 2924; M. Ma suo-
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2427; U. Beck, D.T. Smi h, G. Reine s, S.J. Dap-
kunas, Thin Sol. Films 332 (1998) 164). Es os
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m´e odos suelen econoce se bajo el nomb e gen´e-
ico ingl´es de “plasma enhanced Chemical Vapou
Deposi ion” (PECVD). Adem´as de pa a la p e-
pa aci´on de capas de compues os me ´alicos, es os
p ocedimien os pueden ambi´en u iliza se pa a la
p epa aci´on de capas de pol´ıme os o g´anicos (P.
Gio dano, R.C. Smie ciak, US4784769, 1988; Y.
Hayashi, US4347139, 1982; C.G. Guiza d, E.H.J.
Du and, I.H.Lecacheux, J.D. Ma in, EP1013335,
2000; H. Nomu a, US5439736, 1995; R. Nakase,
EP1035569, 2000; F.U.Z. Chowdhu y, A.H. Bhui-
yan, Thin Sol. Films, 360 (2000) 69; T. Schwa z-
Selinge , A. Von Keudell, W. Jacob, J. Appl.
Physics 86 (1999) 3988; N. Tanigaki, H. Kyo ani,
M. Wada, A. Kai o, Y. Yoshida, E-M. Han, K.
Abe, K. Yase, Thin Sol. Films 331 (1998) 229).
El ipo de p ecu so ol´a il, el de gas del plasma
y las condiciones de abajo y el ipo de la uen e
de plasma son las a iables que pe mi en p oce-
de a un ipo u o o de p epa aci´on. Los m´e odos
de PECVD se han u ilizado p e iamen e pa a la
ob enci´on de capas po osas de ´oxidos ino g´anicos
y de ma e iales compues os ipo siloxano, de in-
e ´es como memb anas sepa ado as de gases (Ch.
Nelson, R. Domanik, US5002652, 1991; R. Vos,
DE19603829, 1997; S. Ma suo, M. Kiuchi, M. Se-
kimo o, US4543266, 1985; Z. Chu, P. Gao, R.
Ye, CN1185041, 1998; S. Roualdes, A. Van de
Lee, R. Be joan, j. S´anchez, J. Du and, AIChE
Jou nal 45 (1999) 1566, O. G¨o big, S. Nehlsen,
J. M¨ulle , J. Memb. Sci. 138 (1998) 115, A.S.
da Sil a Sob ino, G. Cz emuszkin, M. La eche,
M.R. We heime , J. Vac. Sci. Technol. A 18
(2000) 149), habi´endose conseguido en es e caso
un cie o con ol sob e la es uc u a po osa de
la capa deposi ada median e el manejo de condi-
ciones adecuadas del plasma (p esi´on de abajo,
gas de plasma, e c.) du an e el p oceso de des-
composici´on del p ecu so ino g´anico. El m´e odo
que aqu´ı se ei indica plan ea la ealizaci´on de ci-
clos de deposici´on sucesi os de pa es o g´anicas e
ino g´anicas, consigui´endose el con ol de la ex-
u a de la capa deposi ada median e una secuen-
ciaci´on adecuada de es os ciclos.
Explicaci´on de la in enci´on
Cons i uye un obje o de la p esen e in enci´on
un p ocedimien o pa a la p epa aci´on de capas
inas po osas de ´oxidos ino g´anicos sob e subs-
a os median e la deposici´on desde ase apo
asis ida po plasma que cons a de las siguien es
e apas:
a) colocaci´on del subs a o en la c´ama a de
eacci´on del plasma
b) in oducci´on de un p ecu so ol´a il que
con iene el elemen o ino g´anico cuyo ´oxido
se quie e deposi a
c) alimen aci´on con ox´ıgeno o mezclas O2/gas
ine e de la uen e de plasma en la c´ama a
de eacci´on del plasma
d) ac i aci´on de la uen e de plasma en dicha
c´ama a pa a hace eacciona el gas p ecu -
so con el plasma de ox´ıgeno p o ocando la
deposici´on de la capa de ´oxido ino g´anico
sob e el sus a o.
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3ES 2 186 530 A1 4
En e las sucesi as e apas de deposici´on del
´oxido ino g´anico se in e calan e apas de deposi-
ci´on de capas o g´anicas, de o ma que du an e la
e apa de deposici´on de la capa ino g´anica se p o-
duzca la eliminaci´on po combus i´on de la pa e
o g´anica p e iamen e deposi ada. La deposici´on
de la capa o g´anica cons a de las siguien es e a-
pas:
a) in oducci´on de un p ecu so ol´a il que
con iene el compues o o g´anico que se quie-
e deposi a
b) alimen aci´on con ox´ıgeno o mezclas O2/gas
ine e de la uen e de plasma en la c´ama a
de eacci´on del plasma
c) ac i aci´on de la uen e de plasma en dicha
c´ama a pa a hace eacciona el gas p e-
cu so con el plasma de ox´ıgeno p o ocan-
do la deposici´on de la capa del compues o
o g´anico sob e el subs a o.
El subs a o puede se cualquie ma e ial me-
´alico, ce ´amico, id io o ib a ´op ica cuya o ma
puede se plana, en o ma de ubo o con o as
geome ´ıa.
El p ecu so ol´a il puede se cualquie com-
pues o de elemen os me ´alicos de la abla pe i´o-
dica que descompues o po un plasma oxidan e
o igine un ´oxido.
La uen e de plasma es un gene ado de mi-
c oondas, un gene ado de adio ecuencias o una
uen e de co ien e con inua que se apoya me-
dian e un campo magn´e ico o una uen e de elec-
ones y que puede abaja en ´egimen de e-
sonancia elec ´onica ciclo ´onica (“elec on ciclo-
on esonance”, ECR) a una p esi´on comp en-
dida en e 10−2y10
−4To y a una empe a u a
comp endida en e la empe a u a ambien e y la
empe a u a de descomposici´on o g a i izaci´on del
compues o o g´anico o bien en ´egimen con encio-
nal a una p esi´on comp endida en e 100 y 10−2
To y a una empe a u a comp endida igual-
men e en e la empe a u a ambien e y la empe-
a u a de descomposici´on o g a i izaci´on del com-
pues o o g´anico.
El ox´ıgeno se alimen a en una elaci´on de al
menos 4:1 con espec o al p ecu so ol´a il y de al
menos 10: 1 con espec o al compues o o g´anico.
El compues o o g´anico puede se cualquie
compues o o g´anico ol´a il o mado po ca bono,
hid ´ogeno y/o ox´ıgeno, en pa icula hid oca bu-
os ali ´a icos, alic´ıclicos o a om´a icos y en pa i-
cula olueno.
El p ocedimien o puede aplica se a un p ecu -
so ol´a il de un solo me al o a p ecu so es me ´a-
licos de dos o m´as me ales.
Cons i uye o o obje o de la p esen e in en-
ci´on las capas inas po osas p epa adas median e
el p ocedimien o desc i o, as´ı como la u ilizaci´on
de dichas capas inas po osas como senso es de ga-
ses (en pa icula deposi adas sob e un subs a o
de ib a ´op ica), como memb anas sepa ado as de
gases o como ma e iales de uso mic oelec ´onico.
B e e desc ipci´on de la igu a
Figu a 1: Esquema del sis ema expe imen al, en
el cual:
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1. Fuen e de plasma
2. C´ama a de eacci´on en ace o inoxida-
ble
3. Sis ema de dosi icaci´on de los p ecu -
so es
4. Sis ema de bombeo a base de bombas
u bomolecula y o a o ia
5. Alimen aci´on de gases pa a la uen e
de plasma
6. Po amues as pa a la colocaci´on del
subs a o
Figu a 2: Im´agenes de mic oscop´ıa elec ´onica
de ba ido (SEM) de las capas ob enidas en
el ejemplo de ealizaci´on de la in enci´on.
Figu a 3: Resul ados expe imen ales del an´alisis
po medio de elipsome ´ıa espec osc´opica
de una capa de SiO2po osa expues a en
condiciones con oladas a a m´os e as con
dis in os g ados de humedad ela i a desde
5a76%.
Desc ipci´on de allada de la in enci´on
El con ol p eciso de la po osidad en l´aminas
delgadas de ´oxidos de me ales y o os ma e ia-
les ino g´anicos es muy impo an e pa a muchas
aplicaciones de ales sis emas. Po ejemplo, el a-
ma˜no y o ma de los po os es un pa ´ame o c ´ı ico
a la ho a de de ini la capacidad de sepa aci´on de
memb anas ino g´anicas. La p opia es uc u a po-
osa, jun o con el espeso de la capa, de e mina
la sensibilidad y capacidad de espues a de los
senso es en el caso de u iliza se la ecnolog´ıa de
l´aminas delgadas pa a su p epa aci´on o pa a mo-
di ica su espues a. Po o o lado, el hecho que
el m´e odo p opues o implique p ocedimien os de
s´ın esis a empe a u a ambien e ep esen a una
en aja indudable en e a los m´e odos qu´ımicos
de s´ın esis en condiciones ag esi as u o os que
in oluc en calen a las piezas a ele adas empe-
a u as. En e ec o, po las ca ac e ´ıs icas de su
u ilizaci´on, las capas inas po osas han de p epa-
a se sob e subs a os, ac uando es os como ele-
men os ac i os, como en el caso de los senso es,
o me amen e pasi os como po ado es de las ca-
pas. En el p ime caso es e iden e la necesidad de
no p o oca cambios en la uncionalidad, compo-
sici´on y o as ca ac e ´ıs icas de los senso es. En
el segundo caso, es impo an e man ene empe-
a u as de p epa aci´on bajas, cuando los subs a-
os no pueden se al e ados po eacci´on qu´ımica.
Es e es el caso po ejemplo en la u ilizaci´on de
aglome ados de ib as me ´alicas como subs a o
pa a memb anas il an es o ambi´en el caso de
subs a os mic o-po osos ce ´amicos cuando deba
e i a se cualquie eacci´on que al e e su compo-
sici´on.
Las ca ac e ´ıs icas del m´e odo lo hacen ap o
pa a p epa a capas de composici´on qu´ımica a-
iable en p o undidad. Es a posibilidad puede
se de g an in e ´es pa a hace compa ible qu´ımi-
camen e una capa po osa y un subs a o de e -
minado, e i ´andose p oblemas de delaminaci´on.
Asimismo, es a posibilidad pe mi e palia p oble-
mas de ensi´on mec´anica en e ma e iales de dis-
in os coe icien es de dila aci´on cuando el sis ema
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capa/subs a o enga que u iliza se a empe a u-
as ele adas.
Dado que se a a de un p ocedimien o se-
cuencial es posible asimismo p epa a capas con
po osidad con olada y a iable en espeso desde
el in e io al ex e io de la misma. Es a posibili-
dad puede ene g an in e ´es pa a limi a p oce-
sos de colma aci´on con cenizas o pol os o, simple-
men e, pa a mejo a la esis encia a la ab asi´on
de la capa po osa.
El m´e odo de p epa aci´on desa ollado con-
sis e en la deposici´on desde ase apo inducida
po un plasma de ox´ıgeno. Es e m´e odo se basa
en la descomposici´on de p ecu so es ol´a iles do-
si icados de mane a con olada sob e el subs a o
a cub i po la capa po osa. Un esquema del sis-
ema expe imen al se p esen a en la Figu a 1. Se
u iliza una uen e de plasma ex e no (1) de 16 cm
de di´ame o exci ada po mic oondas, que puede
unciona en el ´egimen ECR a bajas p esiones del
o den de 10−3To s y en el modo con encional a
p esiones de algunos To s.
Los ciclos de deposici´on del ma e ial o g´anico
se ealizan en las condiciones de al a p esi´on, u ili-
zando olueno como p ecu so o g´anico y ox´ıgeno
como gas que alimen a la uen e de plasma. Es e
p oceso cons i uye uno de los pun os no edosos
del p ocedimien o ya que gene almen e no se con-
sigue la o maci´on de capas polim´e icas o g´anicas
u ilizando plasmas de ox´ıgeno; en esas condicio-
nes se suele p oduci la eliminaci´on de la capa
o g´anica o mada. La po encia de mic oondas
u ilizada es del o den de 700 w, es ando los lu-
jos de ox´ıgeno en la uen e y de olueno sob e
el subs a o en una elaci´on de al menos diez a
uno. Valo es ´ıpicos de lujos de ox´ıgeno u iliza-
dos es ´an en el o den de 50 sccm. Pa a alcan-
za las p esiones de abajo necesa ias puede se
necesa io disminui la capacidad de bombeo del
sis ema po es angulamien o del mismo.
Cambiando el modo de abajo del sis ema, la
capa o g´anica se quema a empe a u a ambien e
po mediaci´on del plasma de ox´ıgeno mien as que
se deposi a simul ´aneamen e el ´oxido ino g´anico
dequese a e. Enesemomen osesus i uye
el olueno po un p ecu so ol´a il del me al a
deposi a y el modo de abajo del plasma se
es ablece den o de las condiciones ECR a baja
p esi´on. Las p esiones de abajo en es e caso
son del o den de 1∗10−2To , siendo la elaci´on
de lujos en e el ox´ıgeno que alimen a la uen e
y el p ecu so me ´alico ol´a il de al menos 4. El
p oceso de gene aci´on de po os es el esul ado de
la e oluci´on de los p oduc os de combus i´on de
la pa e o g´anica p e iamen e deposi ada (CO2y
H2O) y de la deposici´on simul ´anea del compo-
nen e ino g´anico.
Se log a con ola la es uc u a po osa de la
capa egulando el n´ume o de ciclos y el iempo
de deposici´on de las capas o g´anica e ino g´anica
den o de cada ciclo. Un olumen de po o mayo
se consigue aumen ando el espeso ela i o de la
capa o g´anica y disminuyendo el iempo de depo-
sici´on de la capa de ´oxido en cada ciclo.
Va iando con enien emen e el iempo de los
ciclos de deposici´on de las capas o g´anica e
ino g´anica se pod ´ıan p epa a median e la me-
odolog´ıa p opues a capas de po osidad a iable
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en p o undidad. Asimismo, combinando p ecu -
so es ino g´anicos de dis in os elemen os qu´ımicos
es posible con ola la composici´on qu´ımica de la
capa en p o undidad y/o p epa a capas de ´oxi-
dos mix os. En es e ´ul imo caso se dosi ica ´ıan en
la c´ama a de plasma simul ´aneamen e dos o m´as
p ecu so es ino g´anicos.
Ejemplo de ealizaci´on de la in enci´on
Un ejemplo de aplicaci´on del p ocedimien o
lo cons i uye la p epa aci´on de capas po osas de
SiO2. Como p ecu so ol´a il de Si se ha u ilizado
Si(CH3)3Cl, siendo el lujo de es e compues o de 5
cen ´ıme os c´ubicos en condiciones s anda d po
minu o (sccm) cuando se p ocede a la deposici´on
de la pa e ino g´anica. Las condiciones de a-
bajo ECR se consiguie on con una po encia de
mic oondas de 400 w, y un lujo de ox´ıgeno de ali-
men aci´on de la uen e de 20 sccm. Con las condi-
ciones de bombeo u ilizadas, es os alo es de lujo
daban como esul ado una p esi´on en la c´ama a
de plasma de 1∗10−2To . Pa a la ob enci´on del
dep´osi o o g´anico se u iliz´o un lujo de olueno
de 5 sccm y uno de ox´ıgeno de 50 sccm. T as
es angula el sis ema de bombeo se ob u o una
p esi´on de abajo den o de la c´ama a de plasma
de 1.5 To s. Un ejemplo de ciclos u ilizados pa a
con ola la po osidad de la capa consis i´oenlos
siguien es p o ocolos:
P o ocolo a) 1.- SiO275 nm 2.- Pol´ıme o 10 nm
3.- SiO2150 nm 4.- Pol´ıme o 10 nm 5.- SiO2
375 nm
P o ocolo b) 1.- SiO275 nm 2.- Pol´ıme o 20 nm
3.- SiO2150 nm 4.- Pol´ıme o 20 nm 5.- SiO2
375 nm
P o ocolo c) 1.- SiO275 nm 2.- Pol´ıme o 200
nm 3.- SiO2150 nm 4.- Pol´ıme o 200 nm
5.- SiO2375 nm.
En la Figu a 2 se mues an una se ie de
im´agenes de mic oscop´ıa SEM de las capas ob e-
nidas seg´un los es p o ocolos an e io es. Puede
obse a se cla amen e que la po osidad aumen a
del p o ocolo a) al c), en el sen ido en que au-
men a el iempo de deposici´on de la capa o capas
o g´anicas. La ca ac e izaci´on de es as capas po
m´e odos de adso ci´on (m´e odo BET) mues a que
ienen supe icies espec´ı icas mayo es de 30 m2
g−1y una es uc u a de po os bien de inida.
Ejemplo de u ilizaci´on como senso es ´op icos
G acias a la mic oes uc u a po osa las capas
de SiO2pueden u iliza se como senso es ´op icos
de gases. Una aplicaci´on ´ıpica es la de su uso co-
mo senso de humedad. En la Figu a 3 se mues-
an los esul ados expe imen ales del an´alisis
po medio de elipsome ´ıa espec osc´opica de una
capa de SiO2po osa expues a en condiciones con-
oladas a a m´os e as con dis in os g ados de hu-
medad ela i a desde 5 a 76%. Los pa ´ame os
´op icos an Ψ y cos ∆ a ´ıan signi ica i amen e
y de o ma e e sible con el g ado de humedad,
pudi´endose es ablece una co elaci´on di ec a en-
e las ca ac e ´ıs icas ´op icas de la capa y el g ado
de humedad ambien e. La e oluci´on obse ada
ienesuo igenenlaadso ci´on e e sible de a-
po de agua en la es uc u a po osa de la capa.
4
B1
7ES 2 186 530 A1 8
En el caso conc e o de la Figu a 3 las condiciones
de p epa aci´on de la capa cuyo compo amien o
se e leja son:
- capa polim´e ica: espeso 5 nm 5
10
15
20
25
30
35
40
45
50
55
60
65
-capaSiO
2: espeso 150 nm
- capa polim´e ica: espeso 5 nm
-capaSiO
2: espeso 300 nm
5
B1

9ES 2 186 530 A1 10
REIVINDICACIONES
1. P ocedimien o pa a la p epa aci´on de capas
inas po osas de ´oxidos ino g´anicos sob e subs a-
os median e la deposici´on desde ase apo asis-
ida po plasma que cons a de las siguien es e a-
pas:
a) colocaci´on del subs a o en la c´ama a de
eacci´on del plasma
b) in oducci´on de un p ecu so ol´a il que
con iene el elemen o ino g´anico cuyo ´oxido
se quie e deposi a
c) alimen aci´on con ox´ıgeno o mezclas O2/gas
ine e de la uen e de plasma en la c´ama a
de eacci´on del plasma
e) ac i aci´on de la uen e de plasma en dicha
c´ama a pa a hace eacciona el gas p ecu -
so con el plasma de ox´ıgeno p o ocando la
deposici´on de la capa de ´oxido ino g´anico
sob e el subs a o
yca ac e izado po que se in e calan en e las
sucesi as e apas de deposici´on del ´oxido ino g´a-
nico e apas de deposici´on de capas o g´anicas, de
o ma que du an e la e apa de deposici´on de la
capa ino g´anica se p oduzca la eliminaci´on po
combus i´on de la pa e o g´anica p e iamen e de-
posi ada.
2. P ocedimien o pa a la p epa aci´on de capas
inas po osas de ´oxidos ino g´anicos sob e subs-
a os median e la deposici´on desde ase apo
asis ida po plasma seg´un la ei indicaci´on 1,
ca ac e izado po que la deposici´on de la capa
o g´anica cons a de las siguien es e apas:
a) in oducci´on de un p ecu so ol´a il que
con iene el compues o o g´anico que se quie-
e deposi a
b) alimen aci´on con ox´ıgeno o mezclas O2/gas
ine e de la uen e de plasma en la c´ama a
de eacci´on del plasma
c) ac i aci´on de la uen e de plasma en dicha
c´ama a pa a hace eacciona el gas p e-
cu so con el plasma de ox´ıgeno p o ocan-
do la deposici´on de la capa del compues o
o g´anico sob e el subs a o.
3. P ocedimien o pa a la p epa aci´on de capas
inas po osas de ´oxidos ino g´anicos sob e subs-
a os median e la deposici´on desde ase apo
asis ida po plasma seg´un las ei indicaciones 1 y
2, ca ac e izado po que el subs a o puede se
cualquie ma e ial me ´alico, ce ´amico, id io o i-
b a ´op ica cuya o ma puede se plana, en o ma
de ubo o con o as geome ´ıas.
4. P ocedimien o pa a la p epa aci´on de capas
inas po osas de ´oxidos ino g´anicos sob e subs-
a os median e la deposici´on desde ase apo
asis ida po plasma seg´un las ei indicaciones 1-
3, ca ac e izado po que el p ecu so ol´a il es
cualquie compues o de elemen os me ´alicos de la
abla pe i´odica que descompues o po un plasma
oxidan e o igine un ´oxido.
5
10
15
20
25
30
35
40
45
50
55
60
65
5. P ocedimien o pa a la p epa aci´on de capas
inas po osas de ´oxidos ino g´anicos sob e subs a-
os median e la deposici´on desde ase apo asis-
ida po plasma seg´un las ei indicaciones 1-4,
ca ac e izado po que la uen e de plasma es un
gene ado de mic oondas, un gene ado de adio-
ecuencias o una uen e de co ien e con inua.
6. P ocedimien o pa a la p epa aci´on de capas
inas po osas de ´oxidos ino g´anicos sob e subs a-
os median e la deposici´on desde ase apo asis-
ida po plasma seg´un la ei indicaci´on 5, ca ac-
e izado po que la uen e de plasma se apoya
median e un campo magn´e ico o una uen e de
elec ones.
7. P ocedimien o pa a la p epa aci´on de ca-
pas inas po osas de ´oxidos ino g´anicos sob e
subs a os median e la deposici´on desde ase a-
po asis ida po plasma seg´un las ei indicacio-
nes 5 y 6, ca ac e izado po que la uen e de
plasma abaja en ´egimen de esonancia elec ´o-
nica ciclo ´onica (“elec on ciclo on esonance”,
ECR) a una p esi´on comp endida en e 10−2y
10−4To y a una empe a u a comp endida en-
e la empe a u a ambien e y la empe a u a
de descomposici´on o g a i izaci´on del compues o
o g´anico.
8. P ocedimien o pa a la p epa aci´on de capas
inas po osas de ´oxidos ino g´anicos sob e subs-
a os median e la deposici´on desde ase apo
asis ida po plasma seg´un las ei indicaciones 5
y6,ca ac e izado po que la uen e de plasma
abaja en ´egimen con encional a una p esi´on
comp endida en e 100 y 10−2To y a una em-
pe a u a comp endida en e la empe a u a am-
bien e y la empe a u a de descomposici´on o g a-
i izaci´on del compues o o g´anico.
9. P ocedimien o pa a la p epa aci´on de capas
inas po osas de ´oxidos ino g´anicos sob e subs a-
os median e la deposici´on desde ase apo asis-
ida po plasma seg´un las ei indicaciones 1-8,
ca ac e izado po que el ox´ıgeno se alimen a en
una elaci´on de al menos 4: 1 con espec o al p e-
cu so ol´a il.
10. P ocedimien o pa a la p epa aci´on de
capas inas po osas de ´oxidos ino g´anicos sob e
subs a os median e la deposici´on desde ase a-
po asis ida po plasma seg´un las ei indicaciones
1-9, ca ac e izado po que el ox´ıgeno se alimen a
en una elaci´on de al menos 10: 1 con espec o al
compues o o g´anico.
11. P ocedimien o pa a la p epa aci´on de
capas inas po osas de ´oxidos ino g´anicos sob e
subs a os median e la deposici´on desde ase a-
po asis ida po plasma seg´un las ei indicacio-
nes 1-10, ca ac e izado po que el compues o
o g´anico es cualquie compues o o g´anico ol´a il
o mado po ca bono, hid ´ogeno y/o ox´ıgeno, en
pa icula hid oca bu os ali ´a icos, alic´ıclicos o
a om´a icos.
12. P ocedimien o pa a la p epa aci´on de
capas inas po osas de ´oxidos ino g´anicos sob e
subs a os median e la deposici´on desde ase a-
po asis ida po plasma seg´un las ei indicaci´on
11, ca ac e izado po que el compues o o g´anico
es olueno.
13. P ocedimien o pa a la p epa aci´on de
capas inas po osas de ´oxidos ino g´anicos sob e
6
B1
11 ES 2 186 530 A1 12
subs a os median e la deposici´on desde ase a-
po asis ida po plasma seg´un las ei indicaciones
1-12, ca ac e izado po que el p ocedimien o se
aplica a un p ecu so ol´a il de un solo me al.
14. P ocedimien o pa a la p epa aci´on de
capas inas po osas de ´oxidos ino g´anicos sob e
subs a os median e la deposici´on desde ase a-
po asis ida po plasma seg´un las ei indicaciones
1-12, ca ac e izado po que se el p ocedimien o
se aplica a p ecu so es me ´alicos de dos o m´as
me ales.
15. Capas inas po osas de ´oxidos ino g´anicos
5
10
15
20
25
30
35
40
45
50
55
60
65
p epa adas median e un p ocedimien o seg´un las
ei indicaciones 1-14.
16. U ilizaci´on de las capas inas po osas de
´oxidos ino g´anicos seg´un la ei indicaci´on 15 co-
mo senso es de gases, en pa icula deposi adas
sob e un subs a o de ib a ´op ica.
17. U ilizaci´on de las capas inas po osas de
´oxidos ino g´anicos seg´un la ei indicaci´on 15 co-
mo memb anas sepa ado as de gases.
18. U ilizaci´on de las capas inas po osas de
´oxidos ino g´anicos seg´un la ei indicaci´on 15 co-
mo ma e iales de uso mic oelec ´onico.
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