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Fabricación de Circuitos Microfluídicos sobre Sustrato PCB empleando Impresora 3D SLA

Abstract

Este documento corresponde con el Trabajo Final de Máster que presenta un prototipo de microsistema de flujo, compuesto por un circuito electrónico y un circuito microfluídico cuyo fin es el de generar y detectar el paso de un líquido a través de un microcanal. El circuito electrónico está compuesto por un diodo LED y un fototransistor que son los agentes encargados de detectar variación de fluido dentro de la cavidad. El circuito microfluídico se ha fabricado con una impresora 3D SLA utilizando resina de color transparente. El modelo del circuito sigue una unión de sección T en la cual, al confluir dos líquidos inmiscibles de caudales diferentes, genera una gota o burbuja aguas abajo. Para la elaboración de este prototipo se han llevado a cabo una serie de pruebas que se recogen en este documento. Adicionalmente, se ha usado un Arduino que ejerce como fuente de alimentación y a través de su puerto serie se recoge el valor de la señal de salida del circuito electrónico.

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Fabricación de Circuitos Microfluídicos sobre Sustrato PCB empleando Impresora 3D SLA

Author: Medrano Trujillo, Juan Ignacio
Year: 2024
Source: https://idus.us.es/bitstreams/71826ac2-5cb9-4945-bf40-435830b8113f/download
Equa ion Chap e 1 Sec ion 1
T abajo Fin de Más e
Ingenie ía Elec ónica, Robó ica y Au omá ica
Fab icación de Ci cui os Mic o luídicos sob e
Sus a o PCB empleando Imp eso a 3D SLA
Au o : Juan Ignacio Med ano T ujillo
Tu o : José Manuel Que o Reboul
Dp o. Ingenie ía Elec ónica
Escuela Técnica Supe io de Ingenie ía
Uni e sidad de Se illa
Se illa, 2024
iii
T abajo Fin de Más e
Ingenie ía Elec ónica, Robó ica y Au omá ica
Fab icación de Ci cui os Mic o luídicos sob e
Sus a o PCB empleando Imp eso a 3D SLA
Au o :
Juan Ignacio Med ano T ujillo
Tu o :
José Manuel Que o Reboul
Ca ed á ico
Dp o. de Ingenie ía Elec ónica
Escuela Técnica Supe io de Ingenie ía
Uni e sidad de Se illa
Se illa, 2024
T abajo Fin de Más e : Fab icación de Ci cui os Mic o luídicos sob e Sus a o PCB empleando Imp eso a 3D
SLA
Au o :
Juan Ignacio Med ano T ujillo
Tu o :
José Manuel Que o Reboul
El ibunal nomb ado pa a juzga el P oyec o a iba indicado, compues o po los siguien es miemb os:
P esiden e:
Vocales:
Sec e a io:
Acue dan o o ga le la cali icación de:
Se illa, 2024
El Sec e a io del T ibunal

ii
A mi amilia
A mis amigos
A mis p o eso es
ix
Ag adecimien os
Me gus a ía ag adece la ayuda apo ada po el que ha sido mi u o du an e la elabo ación del T abajo Fin de
Más e . José Manuel, muchas g acias po su paciencia, con ianza, empeño y ayuda pa a acili a me alcanza es a
me a.
Du an e es a e apa, he con i ido con muchas pe sonas que han que ido apo a su g ani o de a ena,
desin e esadamen e, man eniéndome mo i ado y cen ado en acaba es e camino, compañe os y amigos. He
ap endido mucho de odos, g acias. Ag adece a An onio, po su ines imable ayuda siemp e que se lo he pedido.
Ag adecido siemp e a mi amilia, po el apoyo, el aguan e de mis soliloquios eca gados sob e el ema y es a
siemp e en los baches du an e el camino. En especial, a mi pad e y su incon able ayuda, aun cuando no salían
las cosas bien, él me o ien aba y me daba alas pa a pode e mina es a e apa. Os quie o.
G acias.
Juan Ignacio Med ano T ujillo
Se illa, eb e o de 2024
4.4 Resul ado inal. Lec u a de go as 47
5 Conclusión y Mejo as Fu u as 57
5.1 Conclusión 57
5.2 Mejo as u u as 59
Re e encias 61
Anexo A: Código 63
Anexo B: Fab icación de la PCB 67
Anexo C: Hojas de Ca ac e ís icas 69

x ii
ÍNDICE DE FIGURAS
Figu a 1 – Ejemplo de ci cui o mic o luídico 2
Figu a 2 – Ejemplo de PCB 3
Figu a 3 – Ejemplos de mic osis emas 5
Figu a 4 – Disc e ización de luidos inmiscibles 6
Figu a 5 – Geome ía lujo ocalizado 7
Figu a 6 – Geome ía co lujo 7
Figu a 7 – Geome ía unión T 7
Figu a 8 – Gene ación go as en unión T 8
Figu a 9 – Ejemplos de ci cui os mic o luídicos 9
Figu a 10 – Imp esión FDM 10
Figu a 11 – Imp esión SLA 10
Figu a 12 – Imp esión DLP 11
Figu a 13 – Imp esión SLS 11
Figu a 14 – Imp esión EBM 12
Figu a 15 – Resina o osensible 13
Figu a 16 – a) PCB, b) Fo o ansis o SMD 14
Figu a 17 – C oquis del mic osis ema inal in eg ado 14
Figu a 18 – P isma de dispe sión de la luz 15
Figu a 19 – Tipos de e lexión de la luz 16
Figu a 20 – Ejemplo e lexión y e acción 16
Figu a 21 – Tipos de len es 17
Figu a 22 – Cálculo del pun o ocal 17
Figu a 23 – Diseño CAD ci cui o mic o luídico (I) 20
Figu a 24 – Diseño CAD ci cui o mic o luídico (II) 21
Figu a 25 – Diseño CAD ci cui o mic o luídico inal 21
Figu a 26 – Diseño en KiCad del ci cui o de de ección 22
Figu a 27 – Ci cui o PCB en 3D 22
Figu a 28 – Simulación de len es en Op icalRayT ace 23
Figu a 29 – Ci cui o mic o luídico con len es 24
Figu a 30 – Pieza con di e en es ipos de len es 25
Figu a 31 – Cálculo de la len e en la PCB 25
Figu a 32 – Simulación de la in eg ación 26
Figu a 33 – Másca a de esina pa a el ci cui o elec ónico 27
Figu a 34 – Resul ado inal de in eg ación 27
Figu a 35 – Modelo imp eso a Anycubic Pho on Mono X2 29
Figu a 36 – In e az so wa e AnycubicPho onWo kshop 30
Figu a 37 – Selección modelo imp eso a 31
Figu a 38 – Con igu ación pa áme os de imp esión 32
Figu a 39 – P e isualización de la pieza a imp imi 32
Figu a 40 – Resina ámba Den al ma ca UniZ 33
Figu a 41 – R.E.R.F es de calib ación 33
Figu a 42 – Resul ados del es de calib ación 34
Figu a 43 – Pa áme os de imp esión 34
Figu a 44 – Pieza ab icada en esina ámba 34
Figu a 45 – Resina anspa en e Plan -based ma ca Sunlu 35
Figu a 46 – Resul ado calib ación esina anspa en e 35
Figu a 47 – De alles es de calib ación 36
Figu a 48 – Pieza ab icada en esina anspa en e (I) 37
Figu a 49 – Pieza ab icada en esina anspa en e (II) 37
Figu a 50 – Resina anspa en e Basic ma ca Anycubic 37
Figu a 51 – A duino 38
Figu a 52 – Ci cui o de ección sob e p o oboa d 39
Figu a 53 – Compa a i a de e e encias de ensión in e na de A duino 39
Figu a 54 – Ci cui o de ección PCB 40
Figu a 55 – Sin el ci cui o de esina 41
Figu a 56 – Con el ci cui o de esina 41
Figu a 57 – Len e menisco 41
Figu a 58 – Len e bicónca a 42
Figu a 59 – Len e bicon exa 42
Figu a 60 – Comp obación dimensiones pla o de imp esión 43
Figu a 61 – Posición de la pieza 44
Figu a 62 – Cin a doble ca a 50mm ancho 44
Figu a 63 – Fijación al pla o de imp esión 45
Figu a 64 – Imp esión de esina sob e PCB 45
Figu a 65 – Ci cui o elec ónico y de esina 46
Figu a 66 – Resul ado de imp esión. Elec ónica y esina 46
Figu a 67 – P o o ipo de mic ocaudalime o 47
Figu a 68 – Ci cui o den o del encapsulado 48
Figu a 69 – Valo de 𝛼 48
Figu a 70 – Con igu ación de la p ueba 49
xix
Figu a 71 – Gene ación de go as y espues a en el osciloscopio 49
Figu a 72 – Gene ación de go as a di e en es a ios de caudales 50
Figu a 73 – Da os se ial de A duino 51
Figu a 74 – Comp obación ecuación de gene ación de go as 51
Figu a 75 – Análisis a iomé ico amaño/caudal 52
Figu a 76 – Da os A duino: Qoil = 30µL/min (I) 53
Figu a 77 – Da os A duino: Qoil = 30µL/min (II) 53
Figu a 78 – Da os A duino: Qoil = 30µL/min (III) 53
Figu a 79 – Da os A duino: Qoil = 30µL/min (IV) 54
Figu a 80 – Da os A duino: Qwa e = 30µL/min (I) 54
Figu a 81 – Da os A duino: Qwa e = 30µL/min (II) 54
Figu a 82 – Da os A duino: Qwa e = 30µL/min (III) 55
Figu a 83 – Da os A duino: Qwa e = 30µL/min (IV) 55
Figu a 84 – Da os A duino 55
Figu a 85 – Falla en el ci cui o de esina 58
Figu a 86 – Pieza an es y después de aplica esina c uda sob e supe icie 58
Figu a 87 – Másca a del ci cui o de de ección 67
Figu a 88 – Fab icación PCB 67
xxi
NOTACIÓN
ADC
Analog-Digi al Con e e
ADN
Ácido desoxi ibonucleico
CAD
Diseño asis ido po compu ado a
DLP
Digi al Lig h P ocessing
FDM
Fused Deposi ion Modelling
LED
Ligh Emmi ing-Diode
LCD
Lyquid C ys al Display
PCB
P in ed Ci cui Boa d
PDMS
Polidime iloxano
PLA
Tipo de ilamen o de imp eso as FDM
SLA
S e eoli hog aphy
SLS
Selec i e Lase Sin e ing
SLM
Selec i e Lase Mel ing
SMT
Su ace Moun ing Technology
SMD
Su ace Moun ing De ice
RF
Radio F ecuencia
RERF
Resin Exposu e Range Finde
THT
Th ough-Hole Technology
UV
Ul a iole a
:
Tal que
<
Meno que
>
Mayo que
Backslash
⇔
Si y sólo si
o
G ados ángulo
m/s
Me os po segundo
µL/s
Caudal: Mic oli os po segundo
µm
Mic óme o
mm
Milíme o
mm2
Dimensión de supe icie. Milíme os cuad ados
V
Vol ios

1
1 INTRODUCCIÓN
n es e capí ulo se pone de mani ies o el pun o de pa ida del p oyec o ealizado, a in de comp ende y
escla ece la mo i ación del desa ollo ealizado, además de expone los obje i os del abajo.
Du an e los úl imos años, la con inua e olución de la ecnología ha lle ado a la con e gencia en e disciplinas
apa en emen e dispa es en el campo de la ingenie ía, dando luga a una e olución en el diseño y la o ma en
que concebimos y aplicamos sis emas en minia u a, con un alcance que aba ca campos desde la medicina has a
la bio ecnología y la química.
Los a ances en es as á eas han pe mi ido el desa ollo de disposi i os capaces de manipula , analiza y con ola
luidos a escalas mic oscópicas, desbloqueando nue as on e as en la de ección y comp ensión de enómenos
a ni el molecula y celula .
1.1 Mic osis emas
Como se puede ex ae de la palab a, un mic osis ema es el diseño de un écnica o es uc u a a a és del uso de
a e ac o o a e ac os de escala educida, es deci , más pequeños de los que se encuen a en gene al.
En el pano ama de la inno ación ecnológica, los mic osis emas [1] eme gen pa a se una con e gencia única
en e disciplinas apa en emen e dispa es, pe o in ínsecamen e complemen a ias. Son diseños que aúnan
écnicas mic oelec ónicas con écnicas de disciplinas dis in as a la elec ónica. Es as á eas de conocimien o,
cuando se usionan en mic osis emas ab en un abanico de posibilidades eniendo en cuen a el diseño, la
p oducción y la aplicación de es e conjun o.
En el ámbi o de la ingenie ía, los mic osis emas se enume an según las p opiedades y en ajas de su uso. De
es e modo, se sabe que:
▪ El uso de ma e iales es bajo, po an o, el uso de ecu sos na u ales ambién lo se ía.
▪ Se pueden ealiza minia u as de la aplicación educiendo el cos e y siendo menos in asi o.
▪ Se usan ma e iales desechables, ayudando a disminui la con aminación.
▪ Son capaces de ab ica se múl iples unidades, aumen ando la lexibilidad y educiendo cos es.
En es e apa ado, explo amos los undamen os y las con ibuciones de la mic o luídica y la elec ónica pa a
con e ge en un mic osis ema, y cómo su sine gia puede e oluciona la o ma en que in e ac uamos y
comp endemos sis emas en minia u a.
La mic o luídica, como pa e esencial de los mic osis emas, se aden a en el ámbi o de los luidos en olúmenes
minúsculos, en el ango de mic oli os y nanoli os. A es a escala, los luidos e elan p opiedades únicas y
e ec os que di ie en signi ica i amen e de su compo amien o a mayo escala. La mic o luídica se cen a en
comp ende y ap o echa es os e ec os pa a c ea sis emas que pe mi an el anspo e, la mezcla y la eacción
de luidos con una p ecisión y con ol sin p eceden es.
E
In oducción
2
Figu a 1 – Ejemplo de ci cui o mic o luídico
Es a disciplina, p esen a en ajas compe i i as como pueden se los bajos cos es de p oducción y consumo, la
capacidad de epe i i idad, la p ecisión al maneja escalas mic omé icas o la segu idad en e a agen es
con aminan es, en e o as. En en e, el g an incon enien e de se una ecnología poco madu a y en desa ollo,
además, de p oduci se e ec os de escala ad e sos.
La mic o luídica ha impulsado una gama di e sa de aplicaciones en di e en es campos de in es igación. En
biología, pe mi e el análisis a ni el celula , la manipulación de moléculas y la ealización de ensayos en pa alelo
que acele an la in es igación genómica y p o eómica. En medicina, ha dado paso a disposi i os de diagnós ico
po á iles y sis emas de adminis ación de á macos con olados. Su capacidad pa a sepa a pa ículas, ealiza
mezclas p ecisas y lle a a cabo eacciones químicas en olúmenes ín imos ha ans o mado la o ma en que
abo damos p oblemas cien í icos y ecnológicos.
La elec ónica, o o componen e esencial de los mic osis emas, ha desencadenado una e olución digi al
ans e sal en odos los aspec os de nues as idas. Desde el desa ollo de mic op ocesado es cada ez más
po en es has a la p oli e ación de disposi i os mó iles. La elec ónica ha demos ado su capacidad pa a
minia u iza componen es y maximiza la e iciencia de sis emas complejos. Es a minia u ización cons an e ha
allanado el camino pa a su in eg ación en escalas aún más pequeñas.
Den o de los mic osis emas, la elec ónica apo a una dimensión c ucial: la capacidad de de ec a , p ocesa y
comunica in o mación. Los senso es y ac uado es elec ónicos pe mi en la medición de magni udes ísicas con
al a p ecisión y sensibilidad. Los mic ocon olado es y ci cui os digi ales ges ionan y au oma izan p ocesos,
mien as que los sis emas de comunicación pe mi en la in e conexión y el in e cambio de da os en iempo eal.
La elec ónica pe mi e que los mic osis emas in e p e en y espondan a las señales del en o no y del usua io.
3
3
Fab icación de Ci cui os Mic o luídicos sob e Sus a o PCB empleando Imp eso a 3D SLA
Figu a 2 – Ejemplo de PCB
La usión de es as disciplinas acili a el p oceso de in es igación y desa ollo, g acias a la sencillez de
implemen a una uncionalidad a ni el de p o o ipado usando es as ca ac e ís icas.
1.2 Con ex o y mo i ación
La capacidad de manipula con p ecisión luidos en en o nos mic oscópicos ha desencadenado un cambio de
modelo en múl iples á eas cien í icas y ecnológicas. La mic o luídica, una ama in e disciplina ia, se ha
con e ido en mo o de inno ación al pe mi i el desempeño de expe imen os y análisis en olúmenes pequeños
en una a iedad de aplicaciones. Sin emba go, pa a ealiza mediciones p ecisas y con ola los lujos líquidos
en es os en o nos, es esencial con a con disposi i os de de ección al amen e sensibles y sis emas de con ol
adap a i os. En es e sen ido, la in eg ación de sis emas elec ónicos y mic o luídicos se p esen a como una
solución p ome edo a.
Los sis emas con encionales de de ección de caudal han demos ado su u ilidad, pe o su aplicación a escalas
mic oscópicas p esen a desa íos únicos. La in eg ación p ecisa de componen es elec ónicos y mic o luídicos
en un espacio educido exige en oques inno ado es y ecnologías a anzadas. Es aquí donde la imp esión 3D
SLA eme ge como un habili ado cla e. Es a ecnología, que pe mi e la ab icación de es uc u as de alladas en
capas sucesi as de ma e ial, o ece la lexibilidad necesa ia pa a ma e ializa diseños complejos, comple os y
compac os, allanando el camino pa a la c eación de disposi i os híb idos que ap o echan an o la mic o luídica
como la elec ónica.
En es a in e sección de disciplinas, el p esen e abajo se si úa con el p opósi o de explo a y con ibui al
desa ollo y ab icación de un mic osis ema compues o de un ci cui o mic o luídico usando la ecnología de
imp esión 3D de esina sob e una PCB con la uncionalidad de de ección de un lujo de go as.
1.3 Obje i os
El p opósi o p incipal de es e abajo inal de más e es in es iga , desa olla y ab ica ci cui os mic o luídicos
sob e sus a o PCB median e el uso de una imp eso a 3D SLA. Además, den o de la uncionalidad p ác ica del
abajo, se p e ende implemen a un sis ema de de ección elec ónica de bu bujas pa a elabo a un p o o ipo de
mic ocaudalime o. Se enume an los pun os esenciales de es e abajo que se desglosan en p incipales y
secunda ios:
Obje i os p incipales:
o Es udio e in es igación de la ecnología de imp esión po es e eoli og a ía, así como esinas y
pa áme os adecuados pa a la imp eso a de la ma ca y modelo Anycubic Pho on Mono X2.
Fundamen os Teó icos
10
imp esión 3D. Todas ienen la inalidad compa ida de consegui cons ui una pieza en 3D uncional, pe o el
modo de consegui lo es di e en e en e cada una de ellas:
▪ Imp eso as 3D FDM: es as son las imp eso as más conocidas en el me cado. El é mino FDM hace
e e encia a la ex usión de ma e ial en el que un mo o empuja un ilamen o de plás ico a a és de una
obe a que se encuen a a la empe a u a de usión de ese ma e ial. Ese ilamen o se a deposi ando
sob e una base que se en ía a cada capa epi iendo es e p oceso has a e mina la pieza. Suelen ene
una p ecisión de unas 100 mic as. El cos e de imp esión es ela i amen e bajo, es ácil de usa y pe mi e
a iedad de colo es y ma e iales. El man enimien o ambién suele se bajo. El acabado p esen a al a
po osidad y po an o no asegu a un esul ado es anco.
Figu a 10 – Imp esión FDM
▪ Imp eso as 3D SLA: es as imp eso as son las más an iguas del me cado. Tienen un uncionamien o
más complejo. Se compone de un anque con una base anspa en e y una supe icie an iadhe en e donde
se ie e la esina. La pla a o ma de imp esión baja hacía el anque de esina, donde po el o o lado, un
láse es di igido hacia la lámina anspa en e del anque donde se encuen a el líquido, en ese momen o
se cu a una capa de esina. El pla o con la capa cu ada asciende pa a deja que luya la esina limpia po
debajo epi indose el p oceso has a e mina la imp esión. Tienen una esolución de 50 mic as y cuen a
con una g an a iedad de esinas lexibles, biocompa ibles, anspa en es. Una ez la imp esión es á
inalizada, se necesi a de un pos -p ocesado donde se la a la pieza y se cu a de nue o en seco. Las
esinas suelen ene un olo ue e y con iene u iliza las en espacios en ilados. Exis e una a ian e que
es la MSLA (Masked S e eoli hog aphy), que u iliza una ma iz de LED como uen e de luz a a és de
una pan alla LCD.
Figu a 11 – Imp esión SLA

11
Fab icación de Ci cui os Mic o luídicos sob e Sus a o PCB empleando Imp eso a 3D SLA
▪ Imp eso as 3D esina DLP: sigue un uncionamien o simila al SLA. La di e encia es, que en ez de se
un láse el que incide sob e la esina, lo hace un p oyec o p oduciendo que oda la capa se cu e al
mismo iempo. La luz se e leja en un disposi i o de mic o espejos digi ales Es o ha p oducido que las
imp eso as de esina bajen en cos e. Aunque es meno en calidad que las SLA, es e ipo de ecnología
de imp esión ob iene unos esul ados de buena calidad y con un g an acabado. Al se una pan alla
compues a po pixeles cuad ados, el esul ado es una capa o mada po ec ángulos. Cuen a con una
g an a iedad de esinas y equie e ambién de una segunda e apa de la ado y cu ado en seco.
Figu a 12 – Imp esión DLP
▪ Imp eso as 3D SLS con usión de pol o: es simila a la SLA. Un láse incide sob e una cuba de pol o
de políme o cu ando la capa. Es capaz de imp imi piezas de geome ía compleja y su calidad y acabado
son al os. Es a ecnología se es á ab iendo camino a una come cialización de usua io, aunque de
momen o suelen usa se en labo a o ios y emp esas debido a su al o cos e.
Figu a 13 – Imp esión SLS
▪ Imp eso as 3D SLM imp esión de me al: es a ecnología o ece la posibilidad de pode ealiza piezas
en me al. Su uncionamien o es pa ecido a las an e io es. En el anque se deposi a el pol o me álico y
un láse se enca ga de i adia en la supe icie has a cu a la capa, una ez inalizado, se deposi a una
capa de pol o me álico pa a i e a el p oceso con el in de comple a la imp esión. Los me ales que
suelen u iliza es as imp eso as son algunos como el aluminio, el ace o, la pla a o el i anio, en e o os.
Fundamen os Teó icos
12
▪ Fusión po haz de elec ones (EBM): u iliza un haz de al a ene gía pa a induci la usión de en e las
pa ículas de pol o me álico, solidi icando el ma e ial. O ecen una elocidad de cons ucción supe io ,
pe o unos de alles bajos debido a que el g oso de la capa es mayo . Es as piezas se ab ican en acio y
el p oceso solo se pude aplica a ma e iales conduc o es.
Figu a 14 – Imp esión EBM
▪ Fusión po cho o múl iple (MJF): du an e el p oceso, la imp eso a deposi a una capa de ma e ial en
pol o sob e la supe icie de imp esión. Pos e io men e, un cabezal de inyección de in a eco e el pol o
y deposi a sob e él un agen e de usión en las zonas a imp imi y un agen e de de alle en las que no.
Luego se calien a median e in a ojos y la zona del agen e de usión se solidi ica. Es e p oceso elimina
la necesidad de c ea sopo es pa a el modelo ya que cada capa in e io del pol o si e como sopo e.
Su cos e es ele ado y suelen gene a piezas ágiles, pe o de buen acabado y una gama de colo es y
ma e iales al os.
Exis en o os ipos como D op on Demand (DoD), inyección de aglu inan e (BJ) o inyección de ma e ial (MJ)
que son de i adas en uncionamien o de las desc i as an e io men e. Como se in uye, el campo de la imp esión
3D es á en aumen o y cada ez es á eniendo más ele ancia hoy día, g acias sob e odo a su acabado y calidad,
el bajo cos e y la acilidad de ab icación en se ie, e olucionando el me cado y a o eciendo el p o o ipado
ápido en emp esas, pe mi iendo aumen a el po encial del sec o en el que se encuen e.
En es e p oyec o, la ecnología usada es la de imp esión 3D de esina MSLA. Es una ecnología menos cos osa,
debido al p ecio de las pan allas LCD y, po an o, la mayo ía de las imp eso as 3D del me cado des inadas al
usua io suelen usa es a ecnología.
Tan impo an e es sabe qué ecnología y modelo de imp eso a se usa como el ipo de ma e ial que emplea. Po
es e mo i o, en el siguien e apa ado se habla á de las esinas adecuadas a es a écnica de ab icación adi i a, así
como de sus ca ac e ís icas y p opiedades.
2.1.4 Tipos de esinas SLA
El SLA [8] es la ecnología que usa ma e ial o osensible compues o po una mezcla de monóme os que se
endu ecen cuando se expone a luz ul a iole a. Cuando el haz ul a iole a incide sob e la esina en una capa
especi ica, es a se solidi ica. Exis en di e en es esinas que disc epan en e ellas en sus p opiedades ísicas y
químicas, como el colo , la anspa encia, la du eza o su lexibilidad. Po ello, es impo an e elegi con cuidado
qué ipo de esina se a a usa y lee de enidamen e cada una de las p opiedades que adjun a el ab ican e.
Una clasi icación gene al de las esinas se puede da po su composición o po sus p opiedades ísicas. A
con inuación, se enume a án las clases de esinas más usadas y una lis a de las p opiedades más impo an es:
13
Fab icación de Ci cui os Mic o luídicos sob e Sus a o PCB empleando Imp eso a 3D SLA
▪ Resinas es ánda (Basic): son las esinas más comunes y e sá iles u ilizadas en la imp esión 3D. Es as
esinas pueden es a o muladas a base de di e en es políme os como ac ílicos, epoxi y poliu e ano. No
suelen o ece unas p opiedades ísicas muy exigen es y po an o son las más sencillas de u iliza y
con igu a en la imp esión 3D.
▪ Resinas a base de plan as (Plan -based): es as esinas u ilizan ma e iales biodeg adables y sos enibles,
como almidón de maíz, acei e de soja u o os de i ados de plan as. Son espe uosas con el medio
ambien e y su olo desp endido es meno cuando se cu a. También se encuen an en ecnologías de
imp esión FDM. Necesi a de una con igu ación de pa áme os más igu oso debido a las p opiedades
del ma e ial.
▪ Resinas den ales: son especí icamen e diseñadas pa a su uso en aplicaciones den ales, po an o, deben
cumpli con unos es ánda es de segu idad y biocompa ibilidad igu osos.
Además, den o de cada uno de los ipos de esinas, exis en di e en es ca ac e ís icas ísicas pa a elegi el ma e ial
adecuado pa a la aplicación. De es e modo, los más impo an es son:
▪ Du eza: las esinas pueden ene di e en es g ados de du eza, que se pueden medi usando la escala
Sho e o la escala Rockwell. Pueden a ia desde esinas muy sua es y lexibles has a esinas ígidas.
También, algunas esinas son más esis en es a los impac os que o as y son adecuadas pa a aplicaciones
donde se espe an ca gas de choque.
▪ Resis encia al calo : es impo an e sabe si la esina en uso puede sopo a al as empe a u as sin
deg ada se, sob e odo pa a aplicaciones donde la empe a u a ambien e sea al a. Algunas esinas son
e moes ables y pueden sopo a empe a u as ele adas, mien as que o as son más sensibles al calo .
▪ Resis encia química: capacidad de una esina a esis i la in e acción con p oduc os químicos.
▪ Colo : se encuen an di e en es colo es pa a las esinas. Es a ca ac e ís ica se iene en cuen a
especialmen e an es de u iliza la, ya que a ían los pa áme os de la imp eso a con cada colo , de modo
que sea necesa io modi ica los iempos de exposición an o de las capas iniciales como las del es o.
Se pueden encon a ambién esinas anspa en es o anslucidas que necesi a especial a ención a la
ho a de con igu a la imp eso a, ya que suele necesi a unos iempos de exposición di e en es al es o
de colo es es ánda es.
▪ Conduc i idad eléc ica: algunas esinas pueden se conduc o as eléc icas. Es a p opiedad es ele an e
pa a aplicaciones eléc icas o elec ónicas.
Es as son algunas de las p opiedades ísicas de las esinas u ilizadas hoy día en la imp esión 3D. La elección
de la esina adecuada depende á de las p opiedades que exija la aplicación especí ica. Sin emba go, cada
ez son más los ab ican es que a an de mejo a las p opiedades de las esinas, haciendo hincapié sob e
odo en la educción de los iempos de exposición y en la composición de las mismas, dejando de lado o as
p opiedades como la igidez o lexibilidad.
Figu a 15 – Resina o osensible
Du an e es e p oyec o, se ha hecho uso de es ipos de esinas di e en es, es o ha pe mi ido comp oba las
di e encias en e cada una de ellas. Se ha usado un ipo de esina den al de colo ámba , o a anspa en e plan -
based y la úl ima que es con la que se ab ica el p o o ipo inal es anspa en e y de ipo básico. Más adelan e se
de alla án los esul ados con cada una y sus con igu aciones.
Fundamen os Teó icos
14
2.2 Elec ónica
Ya que la aplicación lle a consigo la implemen ación de un ci cui o de de ección del paso del luido a a és de
los mic ocanales, es necesa io habla de la elec ónica.
La elec ónica o ma pa e de la mayo ía de los mic osis emas y ha desencadenado una e olución digi al
ans e sal en odos los aspec os de nues as idas. En es e abajo se diseña, desa olla y ab ica una PCB sob e
la que se imp imi á el disposi i o mic o luídico. El obje i o es, pode se capaz de de ec a el lujo de la bu buja
gene ada den o de la ca idad. Pa a ello, se con a á con la ayuda de un mic ocon olado y componen es de
o ogene ación y o ode ección, así como elemen os pasi os auxilia es.
El uso de la elec ónica y la óp ica en un mic osis ema des aca con impo ancia a la ho a de ealiza ci cui os
mic o luídicos. Es os sis emas combinan la capacidad de p ocesamien o elec ónico con la manipulación de la
luz pa a comple a un mic ocaudalíme o. Es o se log a a a és de la in eg ación de senso es óp icos que,
consiguen de ec a el mo imien o de las bu bujas y apo a la in o mación del compo amien o den o del
mic ocanal
Figu a 16 – a) PCB, b) Fo o ansis o SMD
Un o odiodo o o o ansis o [9] es un componen e elec ónico que depende de la exposición a la luz pa a
unciona . Cuando la luz incide sob e la unión, luye una co ien e in e samen e p opo cional. Se u ilizan mucho
pa a de ec a impulsos luminosos y con e i los en señales eléc icas analógicas o digi ales. O ece una g an
ganancia, bajo cos e y e sa ilidad. Son sensibles a la luz, incluido la luz sola , po lo que, en unción de la
aplicación, se end á que conside a el uso de il os o elemen os opacos que dejen pasa poca luz sola . Muchas
eces, es os mismos componen es suelen ae un il o sola pa a una longi ud de onda especí ica.
Figu a 17 – C oquis del mic osis ema inal in eg ado
La idea es usa la enología de mon aje en supe icie SMT pa a odos los componen es ya que su amaño es
meno y así se a o ece a encon a una dis ancia meno pa a la de ección del paso de la bu buja y el a co c eado
po el LED y el o o ansis o . Se usa á un A duino pa a el p ocesamien o de la señal gene ada po el
o o ansis o .
15
Fab icación de Ci cui os Mic o luídicos sob e Sus a o PCB empleando Imp eso a 3D SLA
2.3 Óp ica
Debido al sis ema que se quie e desa olla , es indiscu ible pensa que, además se lle a a cabo den o de o o
campo de es udio como es la óp ica. El obje o del uso de es a disciplina no es u iliza los ecu sos y es udios que
hay en elación con la luz, poniéndose en p ác icas di e en es ipos de len es y analizando el esul ado den o de
la ca idad mic o luídica de esina. Pa a ello, se han u ilizado cálculos básicos de geome ía pa a encon a y
ab ica un ci cui o de esina con di e en es óp icas o len es y así, de es e modo ob ene qué len e pod ía a o ece
que los senso es u ilizados consigan un mejo endimien o de abajo.
La óp ica es la ama de la ísica que se enca ga del es udio del compo amien o y las p opiedades de la luz,
incluidas sus in e acciones con la ma e ia, así como la cons ucción de ins umen os que se si en de ella o
la de ec an. La óp ica gene almen e desc ibe el compo amien o de la luz isible, de la adiación ul a iole a y
de la adiación in a oja [10].
La mayo ía de los enómenos óp icos pueden explica se u ilizando la desc ipción elec odinámica clásica de la
luz. Sin emba go, la óp ica p ác ica gene almen e u iliza modelos simpli icados. El más común de es os modelos,
la óp ica geomé ica, a a la luz como una colección de ayos que iajan en línea ec a y se des ían cuando
a a iesan o se e lejan en las supe icies. La óp ica ísica es un modelo de la luz más comple o, que
incluye e ec os ondula o ios como la di acción y la in e e encia, que no se pueden abo da median e la óp ica
geomé ica [10].
Figu a 18 – P isma de dispe sión de la luz
2.3.1 Óp ica geomé ica
La óp ica geomé ica usa una ap oximación del compo amien o de la luz; se p opaga en línea ec a dependien e
del medio a una elocidad de 3𝑥108𝑚/𝑠. Es o pe mi e acili a el cálculo de p opagación de la luz y
esumiéndolos en ayos abso bidos, e lejados o des iados siguiendo las leyes de la mecánica. Es os
undamen os se án los que se u ilicen pa a mejo a el diseño del ci cui o mic o luídico, como se ha comen ado
an e io men e, a a és del uso de di e en es óp icas sob e las que el haz de luz del diodo emiso a a iese y
consiga p o oca un e ec o de concen ación mayo en la ca idad del canal y pos e io men e en el ecep o ,
aumen ando la capacidad de de ección del ci cui o.
El enómeno más sencillo es el de la e lexión. Idealmen e, el ángulo que o man el ayo inciden e y el e lejado
con la no mal a la supe icie de sepa ación es el mismo. Dependiendo de las i egula es del medio puede ocu i
una e lexión especula , cuando las i egula idades en el medio son pequeñas, y di usa cuando las i egula idades
en el medio son del o den de magni ud compa able a la longi ud de onda inciden e [11].

Fundamen os Teó icos
16
Figu a 19 – Tipos de e lexión de la luz
O o enómeno que ocu e es el de e acción, que p oduce un cambio en la di ección de los ayos emi idos as
pasa de un medio anspa en e a o o ambién anspa en e en el que la luz se p opaga con dis in a elocidad.
De acue do con es os concep os, la ley de e lexión nos indica que el ángulo inciden e es el mismo que el
e lejado (2) y la ley de e acción añade que el ayo inciden e, el e ac ado y la no mal a la supe icie en el
pun o de incidencia es án en el mismo plano. Además, la Ley de Snell de la e acción dice que el índice de
e acción “n” de un medio es á elacionado con la elocidad de la luz en el acio “c” y la elocidad de ese
medio “ ” (3).
𝜃𝑖= 𝜃𝑟
𝑛= 𝑐
𝑣
Finalmen e, el índice de e acción de la luz que elaciona el ángulo de incidencia con el e ac ado es el de la
ecuación (4), donde 𝜃𝑖 es el ángulo de incidencia, es el ángulo e ac ado y 𝑛1, 𝑛2 los índices de e acción
del medio de incidencia y e ac ado.
𝑠𝑖𝑛(𝜃𝑖)
𝑠𝑖𝑛(𝑟) = 𝑛2
𝑛1
Figu a 20 – Ejemplo e lexión y e acción
(2)
(3)
(4)
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Fab icación de Ci cui os Mic o luídicos sob e Sus a o PCB empleando Imp eso a 3D SLA
2.3.2 Len es
Las len es [12] se usan pa a en oca o dispe sa un haz de luz po medio de la e acción. Suelen es a cons uidas
po un medio anspa en e limi ado po dos supe icies siendo cu o al menos uno de ellos. Las len es más
comunes es án basadas en los dis in os g ados de e acción de la luz al incidi en ella. Se encuen an di e en es
ipos y según la o ma que adop en pueden clasi ica se en con e gen es o di e gen es.
Len es con e gen es:
▪ Bicon exas: o mada po dos supe icies con exas
▪ Planocon exas: o mada po una supe icie con exa y o a plana
▪ Cónca o-con exas (menisco posi i o): o mada po una supe icie con exa y o a lige amen e cónca a
Len es di e gen es:
▪ Bicónca as: o mada po dos supe icies cónca as
▪ Planocónca as: o mada po una supe icie cónca a y un plano
▪ Con exo-cónca a (menisco nega i o): o mada po una supe icie cónca a y una lige amen e con exa
Figu a 21 – Tipos de len es
En es e caso, la esina inal que se usa á es de colo anspa en e y con ella se quie e elabo a di e en es len es
haciendo uso de la imp eso a 3D. La acilidad que iene añadi una len e en el ci cui o de esina es en ajosa ya
que puede apo a una capacidad de colima los ayos del haz de luz del diodo hacia el o ode ec o . Es
impo an e conoce cuales son los cálculos pa a ajus a de mane a adecuada an o la posición de la len e, como
la de los senso es, emiso y ecep o .
A a és de la ecuación de len es (5), se puede halla la dis ancia ocal de una len e, que es el pun o donde se
unen la mayo ía de los ayos del haz de luz. En es e caso, se halla la posición donde debe es a si uado el senso
ecep o . Es a ecuación se usa á pa a dis ancias muy pequeñas, ya que hablamos de que la ca idad es a ía po
debajo de 1mm de ancho y la dis ancia en e el emiso y el ecep o es del o den de los 12mm.
1
𝑓=(𝑛−1)[1
𝑅1−1
𝑅2+(𝑛−1)𝑑
𝑛𝑅1𝑅2]
Figu a 22 – Cálculo del pun o ocal
(5)
Fundamen os Teó icos
18
De la ecuación an e io se sabe que,
es la dis ancia ocal de la len e,
n
el índice de e acción de la esina, 𝑅1
el adio de cu a u a de la supe icie más ce cana al haz de luz, 𝑅2 el adio de cu a u a de la supe icie más
alejada al haz de luz y
d
el g oso de la len e.
En el siguien e capí ulo se de alla án los pasos seguidos pa a esol e es a ecuación en conni encia con los
demás da os que se u ilizan en es e abajo, en unción de la capacidad pa a ob ene mayo esolución con la
esina y las ca ac e ís icas de los componen es elec ónicos del ci cui o de de ección
19
3 DISEÑO DEL MICROSISTEMA
n es e apa ado, se expond án los pasos a segui pa a comple a un ci cui o mic o luídico con elec ónica.
De es e modo, hay que de ini el mé odo pa a consegui la o mación de la bu buja en la unión T, indicando
esul ados y mejo es opciones pa a log a que sean de un amaño su icien e pa a pode se medi a a és del
ci cui o de de ección que incluye es e mic osis ema.
3.1 Conside aciones de diseño mic o luídico
El p incipio de la ecnología de imp esión es e oli og a ica sigue un p oceso de o opolime ización que con ie e
la esina líquida en obje os sólidos, median e el cu ado capa a capa del líquido. Es a écnica de cu ado se basa
en ene una uen e de luz ul a iole a con olada en el ondo de la base donde se deposi a á la esina o osensible
que a cu ando (endu eciendo) las zonas de inidas p e iamen e median e so wa e. La en aja de usa es e
mé odo es la de consegui un esul ado p eciso y, además, es capaz de p oduci piezas con geome ías in e nas
y supe icies lisas complejas.
O a ca ac e ís ica des acable de es a ecnología es la g an a iedad de ma e iales disponibles de esinas, con
di e en es p opiedades mecánicas, colo es y ca ac e ís icas pa a c ea piezas con di e en es a ibu os, lo que
con ie e es e mé odo en una solución e sá il pa a aplicaciones de cualquie campo.
Una ez se iene el modelo CAD, el siguien e paso es u iliza un so wa e slice que di ide el modelo 3D en
capas ex emadamen e delgadas, dependiendo de la esolución de cada imp eso a pueden se de has a 50
mic óme os, quedando ep esen ado como un conjun o de da os en 2D. Una ez se haya imp eso la pieza, se
debe la a pa a elimina cualquie esina no solidi icada. Al usa una esina anspa en e, as el la ado, pie de
anspa encia y se opaca, sin emba go, como se e á más adelan e exis en o mas de anspa en a la esina.
Es e ipo de ecnologías ambién encuen a cie as limi aciones o des en ajas como pueden se el cos e inicial
de la imp eso a, la oxicidad de las esinas, po lo que se hace necesa io abaja con medidas de segu idad
adicional du an e el uso de ellas como guan es y masca illas, y un amaño de imp esión limi ado en compa ación
con o as ecnologías de imp esión.
3.2 Diseño del ci cui o mic o luídico
El obje i o p incipal del diseño es consegui c ea un ci cui o capaz de elabo a , a a és de dos luidos
inmiscibles, go as. Pa a ello es necesa io ene en cuen a las p opiedades de los luidos que se usan en es e
p oyec o, así como aplica los mé odos y cálculos de los luidos pa a da con una solución adecuada.
El p incipal desa ío que se encuen a es el de consegui ab ica el ci cui o en esina median e la imp esión 3D
sob e la PCB que lle a á el ci cui o de de ección, ya que ha eque ido de muchas p uebas pa a encon a la mejo
con igu ación de los pa áme os adecuados en la imp eso a con el in de ob ene un esul ado ap o.
En es e caso el ci cui o p opues o es el de una unión en sección T donde con e ge án dos luidos, uno con inuo
o po ado y o o discon inuo o dispe so. La dis inción de es os luidos como po ado o dispe so iene dada po
E
Diseño del Mic osis ema
26
Conside ando el cálculo de la p ime a supe icie de la len e, se sabe que iene un adio de R1= , co espondien e
a la supe icie con exa, y o o R2 = ∞, co espondien e a la supe icie ec a pos e io . Sabiendo que = 5.8mm
y n =1.5, se ob iene que de la ecuacion (5):
1
𝑓=(𝑛−1)[1
𝑅1−1
𝑅2+(𝑛−1)𝑑
𝑛𝑅1𝑅2]→ 1
5.8=(1.5−1)[1
𝑟−1
∞+(1.5−1)𝑑
∞]→ 1
5.8=(0.5)1
𝑅1
𝑅1=2.9𝑚𝑚
Y conside ando ideal la supe icie ec a, el adio de la o a supe icie con exa se á igual pe o de signo nega i o.
Finalmen e, el adio de las len es son R1 = 2.9mm y R2 = -2.9mm.
3.5 Mic osis ema
Ya que el p opósi o inal es consegui ab ica un mic osis ema compues o po dos ci cui os, el de esina y el
elec ónico, el eco ido pa a alcanza lo ha de i ado en a ios mé odos o o mas de uni ica ambos ci cui os
pa a con o ma un p o o ipo cohe en e.
La p ime a pa e co esponde con el desa ollo de la PCB. An es de odo, una ez gene ado el esquema ico y
posicionado de los componen es, se ha ab icado la placa pe o no se han mon ado los componen es. De es a
o ma, es más sencilla la a ea de pega la PCB sob e el pla o de la imp eso a 3D y ambién el ci cui o de esina.
El mayo incon enien e de es e mé odo es el de pode ajus a co ec amen e la posición de la len e en e los pads
del diodo y el o o ansis o , ya que de no se así se pe de ía ango de medición del ci cui o y baja ía las
p es aciones del mic osis ema. En la Figu a 32 se emula el concep o mencionado, donde po un lado se iene la
a je a y po el o o la esina.
Figu a 32 – Simulación de la in eg ación
O o mé odo que se ha p obado es el de diseña di ec amen e en esina la másca a del ci cui o elec ónico, es
deci , las pis as, ías y pads de los componen es, y además inclui el ci cui o mic o luídico. Así, se gene an odas
las pa es necesa ias que cons i uyen el p o o ipo y se consigue mejo a la localización de la len e jun o con los
senso es ya que se ha cen ado en el modelo CAD. Igualmen e, se u iliza una placa de cob e y se pega a la
pla a o ma de imp esión. Como se mues a en la Figu a 33, la esina se deposi a ía simulando las conexiones
eléc icas del ci cui o y al pasa po el ácido, las zonas de cob e donde no se hay esina cu ada deben
desp ende se con o mando las conexiones eléc icas de los componen es.

27
Fab icación de Ci cui os Mic o luídicos sob e Sus a o PCB empleando Imp eso a 3D SLA
Figu a 33 – Másca a de esina pa a el ci cui o elec ónico
Ambos mé odos se han abajado en el labo a o io y como se e á en el siguien e apa ado, ha gene ado un
pequeño deba e en e qué modo de ob ención del mic osis ema es el más adecuado. Finalmen e se a oja án una
se ie de pun os que disc e iza án el mé odo más adecuado pa a es a aplicación.
Figu a 34 – Resul ado inal de in eg ación
29
4 RESULTADOS EXPERIMENTALES
e de alla a con inuación el abajo p ác ico ealizado en es e p oyec o, explicando las modi icaciones
su idas du an e el ascu so del desa ollo y analizando la solución ob enida p incipalmen e con la imp eso a
3D de esina, y pos e io men e con la uncionalidad conjun a del mic osis ema.
Aunque hoy día, la manu ac u ación adi i a, p o o ipado ápido o más conocido como imp esión 3D, haya
i umpido con ue za en la sociedad ac ual, se sigue iendo como una he amien a usada den o del ámbi o de
la in es igación y de emp esas. Bien es cie o que, el ipo más conocido es el de la imp esión 3D de ilamen o o
hilo, que se in odujo con ue za en un ambien e más come cial a ni el usua io g acias a su bajo cos e. En cuan o
a las imp eso as de esinas, g acias a la ecnología, se es án ol iendo cada ez más asequibles, igualmen e, es e
ipo de ma e iales y, en su conjun o, el mé odo que sigue la imp esión de esina consigue p oduci esul ados de
al a calidad con de alles inos y supe icies sua es, y con una elocidad de imp esión al a.
Exis en di e en es ab ican es de imp eso as 3D como pueden se Elegoo, Anycubic o Fo mlabs. Además, suelen
acompaña la esina p opia de la ma ca, en e las que des acan las de Anycubic, Sunlu y Fo mlabs. Como suele
ocu i con los p oduc os come ciales más ípicos y usados en el día a día, cada modelo de imp eso a lle a
consigo unas ca ac e ís icas especí icas, como la esolución, el á ea de cons ucción y la compa ibilidad de
ma e iales. También, cada ab ican e de esina ecomienda una con igu ación adecuada de los pa áme os de la
imp eso a pa a ob ene un esul ado ú il.
En es e p oyec o, se ha usado el modelo de imp eso a 3D Pho on Mono X2 de Anycubic con una esolución de
50 mic óme os y una supe icie de imp esión de has a 9.1 pulgadas. O ece una al a esolución y p ecisión, lo
que b inda un ni el de de alle ele ado en su acabado.
Figu a 35 – Modelo imp eso a Anycubic Pho on Mono X2
S
Resul ados Expe imen ales
30
Aunque es impo an e ene un modelo capaz de imp imi con una esolución y calidad al a, es aún más
impo an e como se ha mencionado an es, el ipo de esina que se use. Es deci , ca ece de impo ancia ene una
imp eso a de muy al as p es aciones si luego se usa una esina inap opiada. Po es e mo i o, se e opo uno
in oduci un apa ado en el que se mencione la con igu ación de la imp eso a pa a di e en es ipos de esinas,
así como indica la conclusión ob enida con cada una de ellas.
4.1 Ensayos con la imp eso a 3D y esinas
El uso de la imp eso a 3D no es i ial. Es necesa io p es a especial a ención a la in o mación apo ada an o
po el ab ican e de la imp eso a como de la esina. Además de ene en cuen a una se ie de pasos y
con igu aciones ap opiadas pa a pe mi i un buen acabado de las piezas. Po es e mo i o, nace es e apa ado
donde se compa an los esul ados de las esinas y además los ajus es lle ados a cabo con el so wa e u ilizado
pa a gene a el a chi o imp imible.
4.1.1 Con igu ación del so wa e de la imp eso a
Una ez se iene el diseño de la pieza en el so wa e CAD, es impo an e gua da o impo a el a chi o a la
ex ensión .s l ya que suele se el ipo de a chi o que los so wa e slice in e p e a. También, hay que ene en
cuen a qué slice se usa pa a gene a el a chi o en el o ma o pa a la imp eso a 3D. El ab ican e Anycubic
cuen a con una e sión p opia que ha sido la u ilizada AnycubicPho onWo kshop. Sin emba go, exis en o os
so wa es como Lychee o Chi ubox que ambién son compa ibles y o ecen más opciones de pa áme os
con igu ables. El so wa e AnycubicPho onWo kshop se puede desca ga g a is en la página o icial del
ab ican e.
La in e az del so wa e co esponde con la Figu a 36. En p ime plano, en el medio, se encuen a la pla a o ma
de cons ucción del modelo de imp eso a que es á con igu ado. El es o de las en anas son accesos de
con igu ación del p opio so wa e, a la izquie da del posicionado de la pieza sob e el pla o y a la de echa las
ca ac e ís icas y el gene ado de capas de la pieza.
Figu a 36 – In e az so wa e AnycubicPho onWo kshop
An es de nada, se debe selecciona el modelo de imp eso a usada. Haciendo clic en “Se ings” se ab e una
en ana (Figu a 37) donde la p ime a pes aña mues a un amplio abanico de modelos de imp eso as de
Anycubic. Pa a es e caso, se selecciona el modelo Anycubic Pho on Mono X2. Después, se hace clic en Sa e.
En es a misma en ana, hay dos pes añas más que se deben ene en cuen a pa a e mina de con igu a la
31
Fab icación de Ci cui os Mic o luídicos sob e Sus a o PCB empleando Imp eso a 3D SLA
aplicación, la del ipo de esina y los pa áme os de imp esión.
Figu a 37 – Selección modelo imp eso a
Como se obse a en la Figu a 38 hay esal adas es en anas a modi ica . En la pes aña “Resin” hay que
selecciona el ipo de esina que se usa, el es o de los pa áme os no es necesa io cambia . La siguien e pes aña,
es la más impo an e y en la que hay que ene especial cuidado con los alo es que se seleccionan.
P incipalmen e las p opiedades más impo an es a modi ica son las que se encuen an en los ecuad os en ojo,
de iniéndose así cada uno de ellos como:
▪ No mal Exposu e Time(s): es la can idad de iempo que es á expues o a la uen e de luz ul a iole a
cada capa du an e la imp esión, sin inclui las capas iniciales.
▪ Bo om Exposu e Time(s): es la can idad de iempo en que las p ime as capas es a án expues as a la
uen e de luz. Es e pa áme o es de los más impo an e, ya que depende de ello que la pieza quede ijada
a la pla a o ma de imp esión y no se suel e. Suele ecomenda se que sea unas 8-12 eces mayo que el
iempo no mal de capas.
▪ O ime: Es el iempo en el que la uen e de luz deja á de emi i en e cada capa. Aunque suele se un
pa áme o que no se modi ica, hay aplicaciones en las que se ecomienda cambia el alo .
▪ Bo om laye s: es el núme o de capas in e io es necesa ias pa a que la pieza quede ijada bien a la
pla a o ma de imp esión. Suele necesi a se de 3 a 5 capas iniciales.
▪ Laye hickness: es la esolución máxima po capa. Mien as más pequeña sea, mayo se á el iempo
o al de imp esión.
Pa a la mayo ía de es os pa áme os, cada ab ican e de esina suele ecomenda un ango de alo es. Es os
angos suelen se amplios y no iene po qué adecua se al esul ado espe ado, depende á de la complejidad de la
pieza que se quie a imp imi . Puede se ine i able gene a una se ie de piezas an es de encon a los pa áme os
adecuados.
En o a en ana, se ubican los pa áme os de la pla a o ma de imp esión. Es os suelen eni po de ec o y no es
necesa io en la mayo ía de las ocasiones modi ica los, a menos que sea un equisi o explíci o del ab ican e de
esinas o una aplicación conc e a que lo necesi e:
▪ Z li dis ance: es la dis ancia que se ele a la cama cada ez que e mina una capa
▪ Z li speed: es la elocidad a la que la pla a o ma se mue e en e capas.

Resul ados Expe imen ales
32
▪ Z e ac speeed: es la elocidad a la que la pla a o ma e ocede cada ez que acaba una capa.
Una ez se hayan seleccionado odos los pa áme os hace clic en “Sa e”.
Figu a 38 – Con igu ación pa áme os de imp esión
Con igu ado el so wa e, hay que impo a el modelo con ex ensión .s l. Debe apa ece sob e la pla a o ma de
cons ucción. Como se e en la Figu a 39 el modelo es á in e ido espec o a la di ección de imp esión. Una ez
e minado de con igu a , pulsando el bo ón “Slice” se gene a á el iche o que suele ene de ex ensión el nomb e
del modelo que se usa, en es e caso .pmx2.
Figu a 39 – P e isualización de la pieza a imp imi
33
Fab icación de Ci cui os Mic o luídicos sob e Sus a o PCB empleando Imp eso a 3D SLA
4.1.2 Elabo ación de piezas de esina
La p incipal des en aja de usa una imp esión con esina SLA, es que no hay una con igu ación ans e sal pa a
un amplio abanico de es as, es deci , cada ipo de esina equie e unos pa áme os especí icos y, además, el colo
ambién in luye d ás icamen e en el esul ado inal. Al exis i di e en es modelos con pan allas de emisión de
luz de ipos monoc omá ica o a colo , el colo de la esina se con ie e en un ac o impo an e a conside a de
ca a a ob ene una pieza de buena calidad.
Resina de colo Ámba y ipo den al UNIZ
Aunque inalmen e la esina usada es anspa an e, es a esina ue la p ime a u ilizada como oma de con ac o
con la imp eso a 3D. La esina usada es de la ma ca UNIZ y es de ipo den al. El hecho de habe abajado con
es a esina ha sido po la disponibilidad de uso den o del en o no de abajo.
Figu a 40 – Resina ámba Den al ma ca UniZ
Anycubic apo a un es de calib ación especí ico pa a cada modelo de imp eso a 3D. Es e a chi o no se debe
modi ica y es de g an u ilidad po que mues a qué iempos de exposición son los adecuados en unción del ipo
de pieza que se quie e imp imi . El a chi o se llama RERF [13] y es á incluida en la memo ia USB. El es iene
un diseño de pieza compleja que con iene di e en es o mas como aguje os, ángulos, le as en las que se gene an
ocho imp esiones de una misma i ada. Cada pieza iene un iempo de exposición di e en e. La Figu a 41 iene
asignado un núme o del 1 al 8 el iempo de exposición de la capa no mal que es á con igu ado. Con es a
in o mación se puede conclui qué esul ado es el que se desea en unción del ipo de pieza diseñado.
Figu a 41 – R.E.R.F es de calib ación
Ve iendo la esina amba en el ecipien e de la imp eso a y usando es e a chi o, en la Figu a 42 se e una
compa a i a en e dos piezas. Dependiendo del ipo de es uc u a o de alle que iene la pieza, la cu ación a ec a
de di e en e o ma. Pa a es a aplicación, lo in e esan e es pode gene a una ca idad ec angula acia den o de
una pieza, obse ando el esul ado de en e odas las piezas, el mejo ue la co espondien e al iempo 5, es deci ,
Resul ados Expe imen ales
34
2.5 segundos.
Figu a 42 – Resul ados del es de calib ación
Además, de an es se sabe que el iempo de exposición de las capas iniciales debe se de en e 8 y 12 eces mayo
que el de las capas no males, así que pa a el p ime modelo se han u ilizado los siguien es pa áme os:
Tiempo exposición capas iniciales
25s
Tiempo exposición capas no males
2.5s
Tiempo apagado (O ime)
0.5s
Núme o de capas iniciales
5
Resolución
0.05mm
Dis ancia de ele ación eje Z
8mm
Velocidad de ele ación eje Z
2mm/s
Velocidad de e acción eje Z
3mm/s
Figu a 43 – Pa áme os de imp esión
La Figu a 44 co esponde con una p ime a e sión del modelo de ci cui o mic o luídico. La cons ucción de la
pieza ue exi osa y se pudo p oba el ci cui o mic o luídico, con una je inguilla se hizo pasa agua llegando a
odos sus pue os. En es e pun o de pa ida, se ediseñó el modelo educiendo la sección de los canales,
man eniendo siemp e la al u a uni o me en ambos. La p ime a i e ación, se diseñó con una sección in e io de
1mm2 en ambos canales. A medida que se conseguía hace lui líquido en la pieza, se edujo el amaño de la
sección i e ando has a llega a que el ancho mínimo ab icable es de 500µm con una al u a de 400µm.
Figu a 44 – Pieza ab icada en esina ámba
W1 = W2 = 500µm
H = 400µm
35
Fab icación de Ci cui os Mic o luídicos sob e Sus a o PCB empleando Imp eso a 3D SLA
Una ez conseguido y comp obado que se puede ab ica un ci cui o de esina cu ada con ca idades in e nas
mic omé icas, sin u iliza sopo es, se cambió a esina de colo anspa en e.
Resina de colo anspa en e y ipo plan -based SUNLU
Inicialmen e se usa la misma con igu ación y las mismas dimensiones, pe o como se e á y como se espe aba
las ca ac e ís icas de es e ipo de esina necesi a de un nue o ajus e gene al de los pa áme os.
La esina usada es de la ma ca Sunlu. Po azones ob ias, la idea de la aplicación es pode de ec a el luido a
a és de las ca idades, así que, se comp ó una esina de colo anspa en e. El mo i o de que se escogie a de
ipo plan -based ha sido p incipalmen e po su bajo olo du an e el cu ado y esidual en la habi ación y la
disponibilidad de comp a.
Figu a 45 – Resina anspa en e Plan -based ma ca Sunlu
Al igual que con la esina an e io , el p ime paso pa a comp oba qué pa áme os son los adecuados, ue el de
lanza el es de calib ación RERF. An es de nada, se hizo una búsqueda sob e qué pa áme os e an los
ecomendados pa a es e ipo de esinas y en la mayo ía de los o os se indicaba que el iempo de exposición
adecuado debía se mayo pa a las esinas anspa en es o anslucidas, aconsejando un alo en o no a los 40
segundos de capas iniciales. Además, ojeando la ecomendación del ab ican e pa a pan allas monoc omá icas,
que es es e caso, cuyo ango de alo es es á en e 2 y 4 segundos pa a las capas no males y en e 10 y 60
segundos pa a las capas iniciales, los pa áme os seleccionados se man u ie on igual que pa a la esina an e io .
Solo el ipo de esina de la pes aña “Resin” ha sido modi icado, pa a cambia el ipo a plan -based (Figu a 38).
Las piezas con la esina an e io ue on áciles de despega con una espá ula de plás ico sin o ece mucha
esis encia y en ocasiones solo bas aba le an a una pa e pa a que la pieza se desp endie a comple amen e. Es o
e a espe able, ya que como se ha comen ado an e io men e, una ez imp esa, se necesi a un pos cu ado de la
pieza en seco pa a apo a le igidez y du eza. Sin emba go, en es a ocasión, una ez inalizado y an es de
despega de la pla a o ma de imp esión, el esul ado en elación con la calidad del colo y el acabado de la pieza
se eía al o, no obs an e, el p oceso de despegue de las piezas se o nó edioso. Las piezas es aban c is alizadas
y o ecían una g an esis encia de con ac o en e su supe icie y la pla a o ma de imp esión, es o impedía que se
desp endiese con acilidad, necesi ando de una espá ula me álica pa a despega las, ya que usa la de plás ico e a
inú il. Al inal, se pudie on sol a causándoles despe ec os. Las piezas de calib ación acaba on des ozadas,
como se e en la Figu a 46.
Figu a 46 – Resul ado calib ación esina anspa en e
Resul ados Expe imen ales
42
VOu = 1.3559V
Figu a 58 – Len e bicónca a
VOu = 538mV
Figu a 59 – Len e bicon exa
Las cap u as adjun as en las imágenes an e io es mues an el alo de la ensión de salida del o o ansis o al
incidi sob e cada len e la luz del diodo. Compa ando la Figu a 55 y la Figu a 59, se comp ueba que la len e
bicon exa ayuda a colima los ayos de luz emi idas po el diodo, bajando la ensión de salida, signi icando que
el senso es á ecibiendo más luz que sin len e, educiendo el e ec o de e lexión y e acción y el ángulo de
emisión del LED.
De es a o ma se con i ma que lo is o en la simulación iene sen ido y p ecisamen e, el diseño inal del ci cui o
mic o luídico añadi á una len e bicon exa. La len e es de ipo cilínd ica, ya que, al in en a hace una len e
es é ica, debido a la o ma en que se ab ica y el amaño educido no se conseguía un esul ado de len e es é ica.
4.3 In eg ación. Ci cui o elec ónico y ci cui o mic o luídico
Finalmen e, llega la ase de comple a el p o o ipo inal, es deci , uni el ci cui o mic o luídico y el elec ónico.
Como en el apa ado 3.5 se mencionó dos écnicas di e en es de ealiza el p oceso de unión en e ambos
ci cui os, se e án los dos mé odos de in eg ación esol iendo en una compa a i a de las en ajas y des en ajas
de cada uno.
4.3.1 Imp esión sob e PCB
El p incipal e o de ene dos ci cui os di e en es, que po mo i os de aplicación necesi an es a embebido es el
de cuad a la posición del ci cui o mic o luídico con el de la PCB en la posición adecuada. Pa a ello se ha enido
en cuen a la dimensión de la PCB y la posición ela i a sob e el pla o de imp esión.

43
Fab icación de Ci cui os Mic o luídicos sob e Sus a o PCB empleando Imp eso a 3D SLA
El p ime paso, y aunque pueda esul a e iden e, es comp oba que las dimensiones del pla o que mues a el
so wa e coinciden con el de las ca ac e ís icas de la imp eso a. Pa a ello, se ha diseñado en Ca ia un ec ángulo
con las dimensiones del pla o que da el ab ican e, 196x122mm. Al subi es e a chi o, se e si el so wa e iene
en cuen a algún bo de que no sea supe icie imp imible. Como se e en la Figu a 60 el amaño coincide
exac amen e. Es o ayuda á a posicione la PCB y el ci cui o de esina en el pla o.
Figu a 60 – Comp obación dimensiones pla o de imp esión
T as es a comp obación, se lle a a cabo con ene el ci cui o mic o luídico en un ma co que coincida con las
dimensiones de la PCB. Es o ayuda a pode encon a el cen o de nues o ci cui o, es deci , si que emos que la
pieza de esina coincida en una posición conc e a, podemos ajus a la g acias a la dimensión de la PCB y así
con igu a el slice de la o ma adecuada. De es e modo, se ob iene una e e encia de los limi es de la PCB y
ambién de los lími es del pla o.
Se p obó a coloca en una esquina del pla o la pieza, dejando 1cm po cada lado como se e en la Figu a 61.
Aunque inalmen e se decidió coloca la en el cen o del pla o, ya que al calib a la al u a del eje Z con la PCB
pegada en la pla a o ma de imp esión e a más segu o ajus a el eje. De la o a o ma, se puede a iesga a que el
pla o es é inclinado sob e la esquina donde se coloca la PCB pudiendo pe judica el p oceso de imp esión.
Resul ados Expe imen ales
44
Figu a 61 – Posición de la pieza
De acue do con el a ículo 3D P in ed PCB Mic o luidics [14] el mé odo más e ec i o pa a pode adhe i la
PCB a la pla a o ma de cons ucción de la imp eso a es usa cin a de doble ca a. En es e caso, se ha usado cin a
de doble ca a de 50mm de anchu a.
Figu a 62 – Cin a doble ca a 50mm ancho
An es de pega la PCB, hay que asegu a se de que la pla a o ma de imp esión es é comple amen e lib e de esina,
pa a e i a posibles desp endimien os de la pieza du an e la imp esión, u ilizando isop opanol o alcohol mayo
de 95º sob e el pla o y sob e la ca a de la PCB que i á ijada a la cin a de doble ca a. Una ez se hayan secado
ambas supe icies, se debe co a un ozo de cin a mayo que la supe icie de la PCB, es o ayuda á a que cues e
más desp ende se del pla o.
En es a ocasión, p ime o se ha pegado la cin a al pla o de cons ucción, de es e modo se asegu a que no hay
es os de bu bujas o i egula idades en e los ma e iales. Hay que ga an iza que quede bien ijada odo el ozo
de cin a co ado. Pos e io men e, se coloca la a je a y se pega po la ca a lib e, ap e ando con ue za la a je a
con a la cin a pa a que se pegue co ec amen e. An es de comenza la imp esión, se debe espe a al menos unos
minu os a que el pegamen o consiga uni se bien a ambas supe icies ya que de no se así, pod ía il a se la esina
en e las i egula idades y e mina despegando la pieza du an e la imp esión. Una ez pegada la PCB, se debe
calib a el eje Z.
45
Fab icación de Ci cui os Mic o luídicos sob e Sus a o PCB empleando Imp eso a 3D SLA
Figu a 63 – Fijación al pla o de imp esión
Finalmen e, se ob iene un esul ado como el de la Figu a 64 donde se e que la esina se ha cu ado sob e la PCB
co ec amen e. T as despega la del pla o, se limpia la pieza conjun a con isop opanol pa a elimina la esina no
cu ada. Cuando haya secado, se sueldan los componen es en las huellas de la PCB co espondien es.
Figu a 64 – Imp esión de esina sob e PCB
Las imágenes an e io es son el esul ado de imp imi sob e la PCB el ci cui o mic o luídico de esina. P obada
que se puede consegui un buen esul ado en cuan o a la ijación de ambos ci cui os as el cu ado, se p ocede a
diseña el ci cui o elec ónico en esina.
4.3.2 Imp esión de ci cui o mic o luídico y elec ónico a la ez sob e cob e
Dados los incon enien es pa a pode si ua co ec amen e el ci cui o de esina en el espacio ese ado pa a la
pa e de sensado, se io con enien e p oba a hace una másca a en nega i o del ci cui o elec ónico en CAD,
de es e modo, pode uni lo al diseño mic o luídico de esina y hace la imp esión di ec amen e sob e la placa de
cob e.
Tal y como se mues a en el apa ado 3.5, la másca a de esina emula las pis as y pads de cob e que se deben
man ene pa a pode solda sob e ella los componen es. Así, en la Figu a 65, la zona g is co esponde con odo
lo que se imp ime sob e el cob e. Al igual que en la o a écnica, se usa cin a de doble ca a pa a pega el cob e
al pla o de imp esión. La dimensión del cob e debe se algo mayo que el ci cui o que se imp ime, así se asegu a
que oda la másca a se imp ime co ec amen e den o de la a je a.
Resul ados Expe imen ales
46
(a)
(b)
Figu a 65 – Ci cui o elec ónico y de esina
Una ez imp eso, se debe limpia muy bien el exceden e de esina en el cob e. De no se así, al pasa po el
ácido, las zonas que iene es os de esina a da án más en elimina el cob e y puede lle a a que las conexiones
no se hagan co ec amen e llegando a p oduci se uniones no espe adas en e las pis as. Una ez e elada, es
in e esan e e i a las islas de esina que se ha imp eso emulando los pads de los componen es y pis as.
En la igu a de abajo, se en los esul ados u ilizando es a écnica. En es a ocasión, ap o echando que se enía
una placa de doble ca a, se hicie on dos modelos di e en es:
▪ (a) Dejando la ca a de a iba pa a los senso es y la de abajo pa a los componen es pasi os
▪ (b) Usando solo la ca a de a iba pa a odos los componen es y solo la de abajo pa a uni alimen aciones
Figu a 66 – Resul ado de imp esión. Elec ónica y esina
47
Fab icación de Ci cui os Mic o luídicos sob e Sus a o PCB empleando Imp eso a 3D SLA
4.3.3 Ven ajas e incon enien es
Haciendo una alo ación sob e cada uno de los mé odos u ilizados pa a consegui el mic osis ema, se enume an
una se ie de pun os que hacen decan a un mé odo en e a o o.
▪ Imp esión sob e PCB:
o El acabado del ci cui o elec ónico es mejo .
o Meno iempo pa a depu a la pa e de de ección.
o P oceso edioso pa a si ua adecuadamen e la len e en e los senso es.
o Se puede comp a la PCB a ab ican es p o esionales.
▪ Imp esión conjun a:
o Mejo ajus e de la len e en e los senso es.
o El ácido puede pe judica la esina y obs ui las ca idades.
o Se deben limpia adecuadamen e las zonas a elimina po el ácido, po iesgo a un mal acabado.
o Hay que usa una placa de cob e y mé odo adicional pa a e ela la PCB.
De ini i amen e, y eniendo en cuen a que pa a es a aplicación en el que el núme o de elemen os, u ilizados y
necesa ios, y la complejidad son bajas, se decan a po u iliza el segundo mé odo ya que el in e és p incipal es
ene un buen elemen o de de ección pudiendo cen a con mayo p ecisión la len e ab icada.
4.4 Resul ado inal. Lec u a de go as
El mé odo inal elegido es el de la másca a del ci cui o elec ónico y el ci cui o mic o luídico jun os, y además
con odos los componen es sob e la misma capa, dejando la capa in e io pa a conexiones de alimen ación.
Figu a 67 – P o o ipo de mic ocaudalime o
Al igual que en las an e io es, se ecomienda ajus a con po encióme os la pola ización co ec a de los
componen es ac i os pa a man ene un alo medio de salida po debajo de los 2V. Pa a mejo a el
p ocedimien o de p uebas, se ha enido en cuen a el diseña un encapsulado ealizado en 3D, usando una
imp eso a de ilamen o PLA, pa a educi al máximo la incidencia de luz ambien e en el o o ansis o y mejo a
la sensibilidad del ci cui o de de ección.

Resul ados Expe imen ales
48
Figu a 68 – Ci cui o den o del encapsulado
El obje i o p incipal de la aplicación es el de pode con a go as, es deci , la ab icación de un
mic ocaudalíme o. La sección en o ma de T iene dos pue os de en adas, po los que se inyec a á como luido
dispe so agua y luido con inuo acei e. Como se comen ó en el apa ado 2.1.1, la ecuación que ige cual es la
longi ud de la go a depende del ancho del canal con inuo y la elación en e los caudales de en ada.
𝐿
𝑊=1+𝛼· 𝑄𝑖𝑛
𝑄𝑜𝑢𝑡
Reco dando que, L es la longi ud de la go a inmiscible, W es el ancho del canal, 𝑄𝑖𝑛
𝑄𝑜𝑢𝑡 es el a io de caudal del
luido dispe so espec o al luido con inuo y 𝛼 una cons an e de o den uno, cuyo alo depende de la geome ía
de la unión T.
El alo de 𝛼 como se indica en la Figu a 69 depende de la sección gene ada en la unión del ci cui o
mic o luidico, en unción del ancho de la go a en o mación y la longi ud.
𝜶=𝒅
𝒘
Figu a 69 – Valo de 𝛼
En una p ime a ase, el ci cui o se ha p obado alimen ándolo con una uen e de ensión a 5V y pa a lee la señal
se ha u ilizado un osciloscopio. Haciendo pasa el líquido po el ci cui o de esina, se consigue e a iaciones
de ensión del o o ansis o .
(1)
(6)
49
Fab icación de Ci cui os Mic o luídicos sob e Sus a o PCB empleando Imp eso a 3D SLA
Figu a 70 – Con igu ación de la p ueba
Tal y como se e en la Figu a 71, el mic osis ema es capaz de de ec a el paso de las go as, c eando un pe il del
cual se puede ob ene in o mación como el amaño de es as.
Figu a 71 – Gene ación de go as y espues a en el osciloscopio
Jugando con los caudales, se consigue c ea di e en es amaños de go as en la ca idad. En la Figu a 71 se ha
usado unos lujos co espondien es con 30µL/min pa a el luido dispe so (agua con in a e de) y 80µL/min pa a
el acei e.
Resul ados Expe imen ales
50
Figu a 72 – Gene ación de go as a di e en es a ios de caudales
Ya que el amaño de la go a depende en g an medida de los caudales, cuando son dimensiones pequeñas, el
ci cui o mic o luídico ealizado iene en ambos canales un ancho y una al u a idén ica, de 800µm. El amaño de
la go a se espe a g ande y acili a al ci cui o de de ección e la a iación.
Si se es ima que d iene un alo simila al ancho del caudal p incipal, el alo de 𝛼 se supone igual a 1. De aquí
se acili a más el cálculo de la longi ud de la go a. Po ejemplo, los caudales usados pa a gene a las go as de la
Figu a 72 son Qin = 30µL/min y Qou = 50 µL/min. Teniendo en cuen a el es o de los da os, se ob iene que:
𝐿
𝑊=1+𝛼· 𝑄𝑖𝑛
𝑄𝑜𝑢𝑡 → 𝐿
𝑊=1+1∗30
40→𝐿=1400µm
Sabiendo que, la pa e plana de la len e ale 5.2mm, se puede ap oxima que el amaño de la go a es mayo de
1mm. En es e cálculo se es án conside ando que las dimensiones de las ca idades in e io es son las de diseño, y
el alo de 𝛼 uni a io, pe o puede ocu i que du an e el p oceso de cu ado no se haya conseguido alcanza las
dimensiones de la sección a la pe ección y 𝛼 no sea uni a io.
Una ez comp obado que se ob ienen los pe iles de las go as que se gene an en el ci cui o, se ealiza la p ueba
u ilizando el A duino. Además, haciendo uso de un sc ip sencillo en Py hon (Anexo A: Código), se puede
gene a un a chi o .cs con el que pode analiza de enidamen e la in o mación ob enida. De es a o ma, en la
imagen siguien e, se ob ienen los da os de un es ealizado.
(7)
51
Fab icación de Ci cui os Mic o luídicos sob e Sus a o PCB empleando Imp eso a 3D SLA
Figu a 73 – Da os se ial de A duino
El iempo de mues eo es de 25ms, si de la imagen an e io , desde que de ec a la go a has a que pasa, hay
ap oximadamen e 45 mues as, el iempo o al de paso de go a es de 1125ms ap oximadamen e, pa a los
caudales de Qin = 50µL/min y Qou = 5µL/min.
De lo is o an e io men e, el p oceso de o mación de la go a en la unión T se puede desc ibi como al jun a
dos luidos inmiscibles en la in e az de la unión del canal de en ada y del canal p incipal, o de salida, el lujo
discon inuo pene a en la del p incipal y la go a empieza a c ece . El g adien e de p esión del lujo en el cuello
ompe y gene a esa go a aguas abajo.
P obando con una se ie de lujos, en ambos luidos, se consigue gene a amaños uni o mes de go as. El amaño
depende p opo cionalmen e de los caudales, como se ex ae de la ecuación an e io , así que, cambiando el lujo
de la ase dispe sa (en es e caso Qwa e ) y el de la ase con inua (en es e caso Qoil) se ob iene el esul ado de la
Figu a 74. En ella, se mues an una se ie de pun os de di e en es alo es de caudal, dispe so y con inuo, con el
in e és de e la p opo cionalidad implíci a del amaño de las go as en unción del a io de lujo.
Figu a 74 – Comp obación ecuación de gene ación de go as
Además, se añade una g á ica que ep esen a el análisis a iomé ico de los lujos dispe so y con inuo pa a la
geome ía de e e encia (unión en T) en di e en es condiciones. Po ejemplo, si se analiza el pun o
co espondien e a Qoil = 0.0833 µL/s de la Figu a 75, se indica que el cocien e de caudal de en ada y salida es
10 unidades y el amaño de go a en unción del ancho del canal (L/W) es de 11. Es o quie e deci , que pa a es e
a io de caudales, el amaño de la go a se á de 11 eces el ancho del canal, en es e caso 8.8mm
Conclusión y Mejo as Fu u as
58
los luidos, sin emba go, du an e el uso del mismo la conexión se deg ada has a el pun o de ompe se la sección
in e io del pue o como se indica en la Figu a 85, es o lle a a que se p oduzcan ugas du an e las p uebas
pudiendo pe judica la gene ación de las go as.
Figu a 85 – Falla en el ci cui o de esina
En cuan o al ci cui o de de ección, se espe aba que la go a gene ase un pe il cuad ado en la señal del
o o ansis o , no obs an e, la cu a e a más edondeada. Es o se debe al e ec o que p oduce la len e en el ci cui o
de esina, es deci , la geome ía gene a un compo amien o del haz de luz di e en e y du an e el paso de la go a
la abso ción sigue el con o no de la len e de o mando así la señal en una simila a una senoide.
O o pun o in e esan e es el de ene en cuen a el acabado de la pieza. Pa a es a aplicación, si el obje i o es pode
dis ingui go as den o de la pieza de esina, es a debe de se lo su icien emen e anspa en e como pa a deja
pasa la luz. No malmen e cuando se e mina de imp imi la pieza y se limpia, con isop opanol o alcohol, es a
iende a queda anslucida y no anspa en e. Como se e en la Figu a 86, en la imagen de la izquie da es á el
esul ado de la pieza as el limpiado y la de echa es una pieza que ha ecibido un a amien o pos e io a la
limpieza.
Figu a 86 – Pieza an es y después de aplica esina c uda sob e supe icie
Siguiendo ecomendaciones de un ab ican e como es Fo mLabs, aunque exis en di e en es mé odos, pa a
consegui mejo a la anspa encia de la pieza bas a con adminis a unas pinceladas de la p opia esina c uda,
sob e las supe icies que se desea un acabado anspa en e y as seca du an e unos minu os la pieza mejo a en
cla idad.

59
Fab icación de Ci cui os Mic o luídicos sob e Sus a o PCB empleando Imp eso a 3D SLA
5.2 Mejo as u u as
El p oyec o es á pensado pa a p oba la u ilidad de la écnica de imp esión 3D en esina con el obje i o de
consegui p o o ipos de mic osis emas en ocados p incipalmen e al desa ollo y ap endizaje académico. Se
ob iene así un p o o ipo económico y uncional.
Es e abajo ab e camino a la implemen ación de la écnica de ab icación adi i a como es la imp esión 3D en
esina o osensible pa a el desa ollo de u u as aplicaciones básicas y de bajo cos e, además de pa a aplicaciones
de análisis más p o undos de las ca ac e ís icas de un luido a escalas de muy bajo olumen.
En ocando el desa ollo u u o den o de es e p o o ipo se pueden ealiza una se ie de mejo as:
- Añadi un ci cui o pa a ampli ica la señal gene ada po el ci cui o de de ección y mejo a la lec u a de
los da os.
- Mejo a el p oceso de gene ación de ci cui o mic o luídico consiguiendo educi la sección del caudal
in e no. Pa a ello es necesa io p oba nue os iempos de exposición de la esina y ealiza un comple o
seguimien o de los esul ados ob enidos con una misma esina e in en ando epe i los ensayos en unas
condiciones ambien ales cons an es. Aunque es posible educi el amaño de las ca idades in e nas del
ci cui o de esina, apa ecen en con a nue os pa áme os como la agilidad o de o mación de la pieza.
En cualquie caso, lo más impo an e es ene en cuen a cual es el ipo de pieza que se a a imp imi
analizando los pequeños de alles.Implemen a una len e pa abólica pa a concen a más los ayos del
LED den o de la ca idad.
- Añadi po encióme os en la PCB pa a la egulación de la ensión de pola ización de los componen es,
consiguiendo un mejo ajus e en el caso del uso de o os componen es o en o o en o no con di e en es
condiciones de luz ambien e.
- Mejo a el diseño del pue o pa a hace lo más obus o y du ade o, e i ando así que la unión de la en ada
y la mangue a se pueda cizalla y ompe .
61
REFERENCIAS
[1]
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Mic osis emas y Nano ecnologías, Uni e sidad de Se illa
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[3]
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Applica ions ol. 48, nº 9. Chemical Enginee ing. Uni e sidad de Pu due.
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Pio Ga s ecki e al. Fo ma ion o d ople s and bubbles in a mic o luidic T-junc ion-scaling and
mechanism o b eak-up, A ículo, 2006.
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injec ions. A ículo. Uni e sidad de Pu due.
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imp eso as-3d- ecnologia-de-imp esion-3d/
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Los di e en es ipos de esinas que exis en pa a la imp esión 3D. 3D na i es.
h ps://www.3dna i es.com/es/ ipos- esinas-imp esion-3d-201220222/
[9]
Wha is a Pho o ansis o : Ci cui Diag am & I s Wo king. ELPROCUS.
h ps://www.elp ocus.com/pho o ansis o -basics-ci cui -diag am-ad an ages-applica ions/
[10]
Óp ica. Wikipedia. h ps://www.elp ocus.com/pho o ansis o -basics-ci cui -diag am-ad an ages-
applica ions/
[11]
Re lexión y e acción de la luz. FISICALAB. h ps://www. isicalab.com/apa ado/ e lexion- e accion-
luz
[12]
Len e. Wikipedia. h ps://es.wikipedia.o g/wiki/Len e
[13]
Imp esión de p ueba de imp eso a 3D: Buscado de angos de exposición de esina Anycubic.
ANYCUBIC. h ps://www.anycubic.es/blogs/guias-de-imp esion-3d/3d-p in e - es -p in -anycubic-
esin-exposu e- ange- inde
[14]
S e amn Gassman e al. 3D P in ed PCB Mic o luidics, A ículo, 2022.
63
ANEXO A: CÓDIGO
- IDE A duino
1. unsigned long imeSys em = 0;
2.
3. in Pin_Fo o ansis o = A0;
4.
5. in Vcc = 2560; //[mV] Tensión alimen ación
6. in S s = 1023; //[mV] Mues as a duino
7.
8. loa Vou ;
9. in Vse ial;
10.
11. oid se up() {
12. // pu you se up code he e, o un once:
13. Se ial.begin(9600);
14. imeSys em = millis();
15. Se ial.p in ("Tiempo es [ms]"); Se ial.p in (";");
16. Se ial.p in ("Tensión [mV]"); Se ial.p in ("; n");
17. }
18.
19. oid loop() {
20. // pu you main code he e, o un epea edly:
21. ime ();
22. ge Da a();
23. analogRe e ence(DEFAULT);
24. loa senso Value = analogRead(Pin_Fo o ansis o );
25. Vou = (senso Value*Vcc)/S s;
26. Vse ial = Vou ;
27. }
28.
29. oid ime (){
30. imeSys em = millis();
31. }
32.
33.
34. oid ge Da a(){
35. Se ial.p in ( imeSys em); Se ial.p in (";");
36. Se ial.p in (Vou ); Se ial.p in ("; n");
37. }
38. a chi o.w i e(cad)
- Py hon.
1. ## TFM MIERA
2. ## Code: Se ial da a
3.
4. impo se ial
5. impo ime
6. impo cs

Anexo A: Código
64
7. impo collec ions
8. impo ma plo lib.pyplo as pl
9. impo ma plo lib.anima ion as anima ion
10. impo numpy as np
11.
12. num_sample = 0
13.
14. de ge Se ialDa a(sel , Samples, se ialA duino, lines, lin
eValueTex , lineLabel, cs W i e ):
15. global num_sample
16. alue = loa (se ialA duino. eadline().s ip())
17. da a.append( alue)
18. p in ( alue)
19. lines.se _da a( ange(Samples), da a)
20. lineValueTex .se _ ex (lineLabel + '
= ' + s ( ound( alue, 2)))
21. num_sample += 1
22. # Gua da da o en el a chi o CSV
23. cs W i e .w i e ow([num_sample, alue])
24.
25. # Con igu a el obje o Se ial pa a la comunicación con
A duino
26. pue o_se ial = 'COM3' # Reemplaza 'COMX' con el pue o
adecuado
27. baud_ a e = 9600
28.
29. y:
30. se ialA duino = se ial.Se ial(pue o_se ial, baud_ a e
)
31. excep se ial.Se ialExcep ion:
32. p in ( "E o al ab i el pue o se ial
{pue o_se ial}. Asegú a e de que el pue o es co ec o.")
33. exi ()
34.
35. # Inicializa las lis as pa a almacena los da os
36. alo es = []
37. Samples = 50
38. da a = collec ions.deque([0] * Samples, maxlen = Samples)
39. sampleTime = 40
40.
41. # Limi e de ejes g á ica
42. xmin = 0
43. xmax = Samples
44. ymin = 2000
45. ymax = 4000
46.
47. # Con igu ación del a chi o CSV
48. a chi o = 'D ople Qin_15_Q2_30_.cs '
49. cs File = open(a chi o, 'w', newline='')
50. cs W i e = cs .w i e (cs File, delimi e =';')
51. cs W i e .w i e ow(['Nume o de Mues a', 'Valo ']) #
Encabezado del CSV
52.
53. ig = pl . igu e( igsize=(13, 6))
54. ax = pl .axes(xlim=(xmin, xmax), ylim=(ymin, ymax))
55. pl . i le("PRUEBA")
56. ax.se _xlabel("Samples")
57. ax.se _ylabel("")
58.
59. lineLabel = 'Tension'
65
Fab icación de Ci cui os Mic o luídicos sob e Sus a o PCB empleando Imp eso a 3D SLA
60. lines = ax.plo ([], [], label=lineLabel)[0]
61. lineValueTex = ax. ex (0.85, 0.95, "", ans o m=ax. ans
Axes)
62.
63. anim = anima ion.FuncAnima ion( ig, ge Se ialDa a, a gs=(
Samples, se ialA duino, lines, lineValueTex , lineLabel, cs W i
e ), in e al=sampleTime)
64. pl .show()
65.
66. # Cie a el a chi o CSV y el pue o se ial al inaliza
67. cs File.close()
68. se ialA duino.close()
69.
67
ANEXO B: FABRICACIÓN DE LA PCB
En ambos mé odos, la PCB se ha ab icado u ilizando una plancha de cob e e imp imiendo sob e ella el ci cui o.
En el p ime mé odo, se usa una lámina de papel pega ina especial pa a PCBs que iene imp eso el ci cui o
in e ido y aplicando calo con una plancha du an e unos minu os. Pos e io men e, se sume ge en agua ía pa a
mejo a el despegue del papel. De es a o ma se end ía la másca a que el ácido debe a aca .
Figu a 87 – Másca a del ci cui o de de ección
El segundo mé odo, u iliza el ci cui o de esina como se ha comen ado en apa ados an e io es.
Una ez se iene ambos, el a aque químico es el mismo pa a ambos. En es a ocasión se ha usado una mezcla
50/50% de agua oxigenada de 110 olúmenes y agua ue e pa a e osiona el cob e has a consegui dibuja sob e
ella el ci cui o.
Figu a 88 – Fab icación PCB