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BOLETIN DE LA SOCIEDAD ESPAÑOLA DE
ARTICULO
Ce ámica y Vid io
La impo ancia de la seg egación de i io en la de o mación plás ica
de nanoc is ales de ci conia e agonal dopada con óxido de i io
(YTZP)
C. Lo enZo Ma Tín, a. GaLLa do LóPeZ, d. GóMeZ Ga Cía Y a. doMínGueZ od íGueZ.
Cen o de In es igación y Depa amen o de Física de la Ma e ia Condensada, Uni e sidad de Se illa. Apdo. 1065, 4180, Se illa.
Mues as de YTZP (polic is ales de oxido de ci conio dopado con i ia) con amaño medio de g ano de 50 nm, pu as y con un
10% en peso de di e en es ases í eas han sido de o madas a ca ga cons an e en un ango de empe a u a comp endido en e
1150-1200 ºC. Con dicho es udio se p e ende ca ac e iza el compo amien o mecánico del ma e ial y es udia la in luencia
de la seg egación de i ia en la on e a de los g anos en los posibles mecanismos de de o mación. Igualmen e se ha lle ado a
cabo un es udio mic oscópico con el in de ob ene una comple a ca ac e ización del ma e ial. Se han analizado mic og a ías
de las mues as ecibidas y de las de o madas a pa i de Mic oscopía Elec ónica de T ansmisión con encional (TEM), y de las
on e as de g anos de dichas mues as po Mic oscopía Elec ónica de T ansmisión de Al a Resolución (HRTEM).
Se ha p obado que la exis encia de seg egación ca iónica hacia las on e as de g anos es á elacionada con la al a de una
ensión umb al. El pa áme o n no se e al e ado po dicha seg egación, en buen acue do con la ausencia de ensión umb al.
.
Palab as cla es: Nanoce ámicos, YTZP, ase í ea, seg egación.
Impo ance o y ium seg ega ion on plas ic de o ma ion o nanoc ys alline y zia doped e agonel zi conia (YTZP)
Nano-sized YTZP (Y ia Te agonal Zi conia Polyc ys als) samples, pu e and doped wi h 10 w .% o di e en glassy phases
ha e been c ep in a ange o empe a u e be ween 1150-1200 ºC. Mac oscopic cha ac e iza ion o he mechanical beha iou
o hese ma e ial and a s udy on he e ec o he g ain bounda ies y ia seg ega ion on he mechanical esponse o hese
ma e ials ha e been ca ied ou . Mo eo e , a mic os uc u al analysis by con en ional T ansmission Elec on Mic oscopy
(TEM) o bo h, as- ecei ed and de o med samples and a s udy o he g ain bounda ies by High Resolu ion T ansmission
Elec on Mic oscopy a e equi ed o ha e a comple e cha ac e iza ion o hese ma e ials.
The y ium seg ega ion o g ain bounda y is ela ed o he non exis ence o a h eshold s ess. The pa ame e n is no al e ed
by his seg ega ion and g ain bounda y sliding seems o be he de o ma ion mechanism.
Key wo ds: Nanoce amics, YTZP, glassy phase, seg ega ion.
1. INTRODUCCIÓN
La ciencia de los nanoma e iales es hoy día una de las
líneas de in es igación de más ápido c ecimien o. Den o de
ella, los ma e iales ce ámicos nanoes uc u ados despie an
un eno me in e és, ya que pueden p esen a p opiedades
muy di e en es a los ma e iales ce ámicos con encionales,
ab iéndose así la posibilidad de diseño de ma e iales ce ámicos
con po enciales aplicaciones que los haga compe i i os en e a
los me ales, al como el “con o mado supe plás ico” y uniones
de ma e iales ce ámicos (1). Los ma e iales ce ámicos a base
de ci conia cons i uyen la angua dia en es e campo debido a
la supe plas icidad exhibida en el ango submic omé ico (2).
Aunque es escasa la li e a u a exis en e pa a es os ma e iales
ce ámicos nanomé icos, un p ime análisis ha sido el es udio
ealizado po Gu ié ez Mo a y col. (3) y po Lo enzo Ma ín y
col. (4) ace ca del compo amien o mecánico a al a empe a u a
de los mismos. De ellos se desp ende que el deslizamien o de
on e as de g anos es el mecanismo p incipal de de o mación,
aunque no se concluye cuál es el mecanismo de acomodación.
También se es udia el papel jugado po la exis encia de la
ase í ea, que se aduce en un e ec o de ablandamien o del
ma e ial (5). En es e abajo amos a cen a nos en es udia
la exis encia de seg egación de i ia, así como el papel que
desempeña en la espues a mecánica del ma e ial.
2.-PROCEDIMIENTO EXPERIMENTAL
2.1.- Ensayos de luencia
Se dispone de mues as de ma e iales ce ámicos
nanomé icos de YTZP sin dopa (que en lo que sigue
llama emos pu as) y dopadas con un 10% de dis in as ases
í eas. El análisis químico del ma e ial ecibido e ela que
la composición química de dichas ases í eas es de un 80%
en peso de SiO2, 15% en peso de Al2O3, y 5% en peso de S O,
pa a la denominada “SAS” y un 80% en peso de SiO2, 15% en
peso de Na2O, y 5% en peso de S O pa a la que llama emos
“SNS”. Las densidades expe imen ales es án odas po encima
del 97% del alo eó ico medido con elación a las mues as
pu as (6.1g .cm-3).
Las mues as ue on co adas en o ma de pa alelepípedo y
dispues as en e pis ones de alúmina, in e poniendo pas illas
de ca bu o de silicio en e los pis ones y la mues a con el in
de e i a posibles inden aciones. Los ensayos de de o mación
a ca ga cons an e en comp esión ( luencia), en comp esión
se ealiza on u ilizando una máquina p o o ipo desc i a en
(6), en un ango de empe a u a en e 1150 y 1210 ºC, con
ensiones comp endidas en e 5 y 35 MPa, y alcanzando
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elocidades de de o mación comp endidas en e 10-7 y 10-5
s-1. La empe a u a de abajo es su icien emen e baja pa a
que no exis a c ecimien o dinámico de los g anos pe o a la
ez su icien emen e al a pa a que la di usión juegue un papel
ele an e en el p oceso de de o mación.
2.2.- Obse aciones mic oes uc u ales y mic oanálisis
T as la de o mación se obse ó las mic oes uc u a de las
mues as y se compa ó con el ma e ial sin de o ma , con el
in de obse a si exis e e olución mic oes uc u al du an e
el ensayo de de o mación. Como se e á pos e io men e, se
a a de un da o muy ele an e pa a de e mina el mecanismo
de de o mación. Pa a ello se p epa a on mues as pa a se
obse adas po TEM y HRTEM siguiendo el p ocedimien o
con encional desc i o en (4). Las mues as ue on es udiadas
median e TEM u ilizando un mic oscopio (Philips CM200)
ope ando a 200 kV, del Se icio de Mic oscopía de la
Uni e sidad de Se illa. Pos e io men e ue on analizadas
químicamen e, ob eniéndose pe iles de concen ación de
cie as especies a lo la go de on e as de g anos median e la
écnica de espec oscopía de ayos X emi idos po exci ación
elec ónica (XEDS), u ilizándose pa a ello un mic oscopio
análogo (Philips CM200) con enien emen e equipado. Las
on e as de los g anos ue on obse adas median e HRTEM
empleando un mic oscopio de esolución a ómica ARM-1000
JEOL, ope ando a 800 kV; ambos mic oscopios pe enecien es al
Se icio de Mic oscopía Elec ónica (N.C.E.M) del Labo a o io
“Law ence Be keley” de la Uni e sidad de Cali o nía. Pa a
es ima el amaño medio de g ano, se ob u ie on diag amas
de ayos X de las dis in as mues as, empleando pa a ello
un di ac óme o Philips PW-1700 de la Uni e sidad de
Ex emadu a.
3. RESULTADOS
Los da os que se ob u ie on de los ensayos de luencia
se ajus a on a la ecuación cons i u i a de luencia a al as
empe a u as:
siendo , la elocidad de de o mación; A, una cons an e
no dimensional; G, el módulo de cizalladu a; b, el ec o
de Bu ge s de las dislocaciones en YTZP; σ, la ensión
aplicada; T, la empe a u a absolu a; k, la cons an e de
Bol zmann y D0 un ac o p eexponencial del coe icien e de
di usión. El é mino σ0, conocido como ensión umb al, es
la mínima ensión necesa ia pa a que exis a deslizamien o
de los g anos y es una unción in e sa del amaño de g ano
(7). Los pa áme os n (exponen e de ensión) y Q (ene gía
de ac i ación) se de e minan expe imen almen e median e
cambios de la ensión o de la empe a u a, man eniendo los
o os pa áme os cons an es ( igu a 1) y son ca ac e ís icos del
p oceso de de o mación del ma e ial. El cálculo de n se hace
median e la siguien e exp esión:
siendo
1
•
ε
y
2
•
ε
las elocidades de de o mación es aciona ias
an es del sal o (σ1) y después del sal o (σ2); ambas medidas
pa a un mismo alo de la empe a u a y la de o mación.
De o ma análoga se p ocede pa a calcula el pa áme o Q,
a pa i de amos con di e en es empe a u as en donde las
elocidades de de o mación es án calculadas en las mismas
condiciones de de o mación y ensión.
C. LORENZO MARTíN, A. GALLARDO LóPEZ, D. GóMEZ GARCíA Y A. DOMíNGUEZ RODRíGUEZ
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Fig. 1.- Cu a de luencia pa a la mues a con un 10% de ase í ea
ipo SNS. Se mues an los alo es ob enidos pa a el exponen e de en-
sión (n) y la ene gía de ac i ación (Q) pa a las dis in as condiciones
de ensayo.
En la igu a 1 puede e se a ios alo es de n y Q jun o
con las condiciones expe imen ales u ilizadas pa a su cálculo.
El alo medio de los esul ados ob enidos pa a n y Q en los
dis in os ipos de mues as es udiadas se ecogen en la abla
I.
Puede comp oba se que, si bien los alo es ob enidos
pa a el exponen e de ensión es án en buen acue do con
los ob enidos pa a el mismo ma e ial con amaño medio de
g ano en el ango submic omé ico (n=2) (8), el alo ob enido
pa a la ene gía de ac i ación al disminui el amaño medio
de g ano a las decenas de nanóme os es bas an e supe io
(Q ≅ 700kJ/mol) en e al alo ob enido pa a las mues as
submic omé icas (Q ≅ 500 kJ/mol). Es o ocu e an o en la
mues a pu a como en las que con iene ase í ea.
Pa a es udia la posible e olución mic oes uc u al del
ma e ial du an e las expe iencias de de o mación, se han
obse ado las mues as po TEM del ma e ial an es y después
de se de o mado ( igu a 2). Cabe des aca que an o el
amaño como la o ma de los g anos se man ienen cons an es,
y no se obse an ac i idad de dislocaciones, ca i ación ni
g ie as. Además, es e hecho es independien e de la can idad
mues a n Q(kJ/mol)
Pu a 2.0±0.4 682±15
10% ase í ea SNS 2.3±0.5 710±40
10% ase í ea SAS 2.3±0.5 710±30
TABLA I.- VALORES DEL EXPONENTE DE TENSIÓN Y LA ENERGÍA DE ACTIVACIÓN
CALCULADOS A PARTIR DE LAS EXPERIENCIAS DE FLUENCIA
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de impu ezas que con iene el ma e ial. Po o o lado, pa a
la es imación del amaño medio de g ano, los diag amas de
ayos X ob enidos ue on analizados median e la écnica de
Wa en-Abe bach (9). Con es e mé odo se ob iene una co a
in e io del amaño medio de g ano, que no di ie e mucho del
alo eal pa a dis ibuciones es echas. El amaño medio de
g ano, calculado median e es a écnica es á en o no a 50±20
nm pa a odas las mues as. En la igu a 3 se mues a el
his og ama ob enido pa a la mues a con un 10% de ase í ea
SAS. Los alo es de amaños de g anos así es imados es án en
buen acue do con los ob enidos pa a los mismos ma e iales
median e mic oscopía de ue za a ómica (AFM) (4).
LA IMPORTANCIA DE LA SEGREGACIóN DE ITRIO EN LA DEFORMACIóN PLÁSTICA DE NANOCRISTALES DE CIRCONIA TETRAGONAL DOPADA CON óXIDO DE ITRIO (YTZP)
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es udiadas se encon ó un inc emen o de la concen ación de
i io en o no al bo de de los g anos, esul ando se in e io al
1 mol%.
Po úl imo, el análisis de las mues as median e HRTEM
e ela que exis e una acumulación de ase í ea en los
pun os iples, disminuyendo ue emen e a medida que nos
ap oximamos al pun o de con ac o en e g anos en donde deja
de se dis inguible ( igu a 4).
Fig. 2.- Mic og a ías de la mues as 10% con ase í ea SAS, an es de se de o mada (de echa) y después de se de o mada (izquie da)
Fig. 3.- Dis ibución log-no mal del amaño de g ano pa a la mues a
10% SAS
Con el obje o de es ablece si exis e seg egación de i io
en las on e as de los g anos y analiza las implicaciones que
conlle a dicha seg egación, se lle ó a cabo un mic oanálisis de
las mues as de es udio median e XEDS. En odas las mues as
Fig. 4.- Mic og a ía de ansmisión de una unión de on e as de g an-
os pa a la mues a con un 10% de ase í ea SAS
4. DISCUSIÓN
Los alo es ob enidos pa a los pa áme os ca ac e ís icos
de la luencia, en conc e o el alo en o no a n=2 pa a el
exponen e de ensión, y el hecho de que no exis a cambio
mic oes uc u al del ma e ial du an e la de o mación,
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man eniéndose cons an e an o la o ma como el amaño
medio de los g anos, indica que el p incipal mecanismo de
de o mación p esen e bajo es as condiciones de ensayo es
el deslizamien o de on e as de g anos. Es e mecanismo de
de o mación p opues o es á de acue do con la amplia li e a u a
exis en e pa a es e ma e ial en el ango submic omé ico (7)
y con los es udios p elimina es ensayados pa a mues as
con amaño de g ano en el ango nanomé ico (3,4). Con
espec o a la ene gía de ac i ación, el alo ob enido pa a
nues o ma e ial de es udio (Q ≅ 700kJ/mol), esul a se muy
supe io al alo de la ene gía de ac i ación cuando el sis ema
acomoda po di usión ca iónica en olumen (Q ≅ 500 kJ/mol),
mecanismo de acomodación acep ado pa a las mues as en el
ango submic omé ico. Aunque es e esul ado ambién es á
de acue do con los da os ob enidos en incipien es es udios
desa ollados pa a nues o ma e ial (3,4), no se conocen las
causas que hacen aumen a es e pa áme o, quedando aún
po esol e cuál es el mecanismo de acomodación p esen e.
O a de las di e encias impo an es con las mues as en el
ango submic omé ico es la no exis encia de ensión umb al
en nues o ango de abajo. De los ensayos de luencia
ealizados se desp ende que en el caso de exis i ensión
umb al pa a las mues as ensayadas, és a se ía in e io a σ0
≅ 5 MPa ( igu a 1). Sin emba go, la ensión umb al p edicha
pa a es os nanoce ámicos, con un amaño medio de g ano
en o no a los 50 nm y a una empe a u a de abajo de 1150
ºC, de acue do al compo amien o del ma e ial en el ango
submic omé ico, se ía de 160 MPa (8). Vemos po an o que
al disminui el amaño de g ano, la dependencia 1/d de la
ensión umb al deja de ene sen ido.
Un modelo gene al que ecoge dicho compo amien o ha
sido ecien emen e p opues o po Gómez-Ga cía y col. (10,11).
En és e se apun a a que la di e encia de compo amien o
encon ada en ambos angos, es á elacionada con la
disminución de seg egación de las especies ca iónicas en la
on e a de g ano con o me se disminuye el amaño de g ano
has a las decenas de nanóme os. Dicha seg egación posibili a
la o mación de campos eléc icos locales capaces de al e a
el anspo e de ma e ia de especies ca gadas. En el caso de
ma e iales me álicos exis e una compensación pe ec a de
ca ga debida a la al a mo ilidad de los elec ones, mien as
que en ma e iales ce ámicos la compensación no es o al y
exis e una zona es ingida, de unos nanóme os en o no
al bo de del g ano, en la que el campo eléc ico es no nulo.
Cuando la seg egación es débil, los e ec os del campo eléc ico
se minimizan de o ma que la ue za elec os á ica que se
opone al mo imien o ela i o de los g anos es desp eciable.
Es e e ec o se ía el esponsable de la baja ensión umb al
p esen e en mues as nanomé icas (12)
5. CONCLUSIONES
Los ensayos de luencia con mues as de YTZP con amaño
medio de g ano de 50 nm y en un ango de empe a u a
en e 1150-1200 ºC, jun o a un análisis mic oscópico de las
mues as an es y después de se de o mado, han e elado que
el ma e ial se de o ma median e deslizamien o de on e as
de g ano siendo aún obje o de con o e sia el mecanismo de
acomodación que iene luga en es os ma e iales. Un análisis
químico de las mues as ensayadas indica la exis encia de
una débil seg egación de i io hacia las on e as de los
g anos. Dicha seg egación es la esponsable de la ausencia de
ensión umb al, que se ha ob enido expe imen almen e pa a
el ma e ial obje o de es udio, según un modelo p opues o
ecien emen e.
AGRADECIMIENTOS
Los au o es ag adecen la ayuda inancie a apo ada po la
“Comisión In e minis e ial de Ciencia y Tecnología” a a és
del p oyec o MAT2000-0622, y MAT2003-04199-CO2-02.
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Recibido: 01.12.03
Acep ado: 23.11.04
C. LORENZO MARTíN, A. GALLARDO LóPEZ, D. GóMEZ GARCíA Y A. DOMíNGUEZ RODRíGUEZ